30PHOTOLITHOGRAPHY (2)

목차

PHOTOLITHOGRAPHY 란?
PHOTORESIST의 정의
PHOTOLITHOGRAPHY 제작과정

본문내용

PHOTOLITHOGRAPHY 란?

Photolithography 공정은 어떤 특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용하여, 얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛 을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한 pattern을 형성시키는 공정 이다.
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PHOTORESIST란

Photo Resist는 화상형성용의 사진식각(Photoetching)에 사용되는 감광성 고분자를 일컫 는 것을 말한다.
Micron이나 Micron 이하의 미세형상 구현이 요구되는 재료이다.
반도체, LCD, 인쇄 분야, 인쇄 회로기판분야 및 정밀 가공 금속 제품이나 유리 제품의 제 조 등 산업 전반에 널리 이용된다.
반도체 또는 LCD 제조공정에서의 Photo Resist는 빛에너지에 의해 분해 또는 가교 등이 일어나 그 용해 특성이 변화하는 물질
Photo Resist 위에 원하는 Pattern이 그려져 빛을 선택적으로 투과시킬 수 있는 Mask 를 놓고 노광(Exposure)하면 빛을 받은 특정 부위만 화학적으로 변화하게 된다.
이를 용매(Developer)에 처리하면 노광된 부분 또는 노광되지 않은 부분만 녹아 결국 Mask의 Pattern이 Photo Resist로 구현된다.

키워드

무지개,   반사의 법칙,   물방울,   반도체,   나노,   반도체공학,   공대,   반사