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목차
Hazard of TFT-LCD Manufacturing Process
■ TFT-LCD(Thin Film Transistor LCD)
■ LC(Liquid Crystal)
■ Manufacturing Process
∎ TFT Process
∎ Cell Process
∎ Module Process
■ Hazards
■ MSDS & NFPA 704 M Code
■ TFT-LCD(Thin Film Transistor LCD)
■ LC(Liquid Crystal)
■ Manufacturing Process
∎ TFT Process
∎ Cell Process
∎ Module Process
■ Hazards
■ MSDS & NFPA 704 M Code
본문내용
Hazard of TFT-LCD Manufacturing Process
TFT-LCD
╋━━━━━━━━━━─────────
■ 구성
∎ TFT가 형성되어 있는 아래 유리기판
∎ Color Filter가 형성되어 있는 윗 유리기판
∎ TFT 와 Color Filter 사이에 주입된 액정(LC)으로 구성
■ 원리
∎ TFT는 전기적 신호를 전달, 제어
∎ 액정은 전압에 따라 분자구조를 달리하여 빛의 투과를 제어
∎ 제어된 빛은 Color Filter를 통과하면서 원하는 색과 영상으로 표현
TFT-LCD
╋━━━━━━━━━━─────────
≪ 그 림 ≫
LC(Liquid Crystal)
╋━━━━━━━━━━─────────
■ 액정
∎ 액체와 고체의 중간상태에 있는 물질
∎ 막대모양의 구조
▪ 굴절율, 유전율, 전도율, 점성율 등의 물성값이
분자 장축의 평행 방향과 수직 방향에 따라 다름.
≪ 사 진 ≫
Manufacturing Process
Process chart
╋━━━━━━━━━━─────────
≪ 그 림 ≫
Process chart
╋━━━━━━━━━━─────────
≪ 그 림 ≫
TFT Process
╋━━━━━━━━━━─────────
■ TFT Process
∎ Deposition Step : 증착 공정
∎ Photolithography Step : 현상 공정
∎ Etching Step : 식각 공정
■ 박막 트랜지스터를 배열하여 제작하는 공정
■ Wafer 대신에 유리를 사용
■ 300 ~ 500℃의 공정온도를 유지
TFT-LCD
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■ 구성
∎ TFT가 형성되어 있는 아래 유리기판
∎ Color Filter가 형성되어 있는 윗 유리기판
∎ TFT 와 Color Filter 사이에 주입된 액정(LC)으로 구성
■ 원리
∎ TFT는 전기적 신호를 전달, 제어
∎ 액정은 전압에 따라 분자구조를 달리하여 빛의 투과를 제어
∎ 제어된 빛은 Color Filter를 통과하면서 원하는 색과 영상으로 표현
TFT-LCD
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≪ 그 림 ≫
LC(Liquid Crystal)
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■ 액정
∎ 액체와 고체의 중간상태에 있는 물질
∎ 막대모양의 구조
▪ 굴절율, 유전율, 전도율, 점성율 등의 물성값이
분자 장축의 평행 방향과 수직 방향에 따라 다름.
≪ 사 진 ≫
Manufacturing Process
Process chart
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≪ 그 림 ≫
Process chart
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≪ 그 림 ≫
TFT Process
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■ TFT Process
∎ Deposition Step : 증착 공정
∎ Photolithography Step : 현상 공정
∎ Etching Step : 식각 공정
■ 박막 트랜지스터를 배열하여 제작하는 공정
■ Wafer 대신에 유리를 사용
■ 300 ~ 500℃의 공정온도를 유지
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