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Patterns of Growth of Biotechnology in Munich, Rhineland and...", Small Business Economics 17 1. 클러스터의 개념 및 이론적 동향
(1) 클러스터의 의의와 개념
(2) 클러스터의 이론적 동향
(3) 클러스터와 지역혁신체제
2. 국내외 산업클러스터의 정책 동
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patterns of LIS faculty from 1982-1992: Effects of doctoral programs." Library and Information Science Research, 16: 139-156.
Shackel, B. 1997. "Human-computer interaction―Whence and whither?" Journal of the American Society for Information Science, 48: 970-986.
Spink, A. 1997. "Information science:
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ng
테이프를 이용하여 원하는 pattern을 제작하고 유리기판 위에 부착한다 이 부분은 나중에 eaching이 되지 않고 남아있어 LCD동작시 전압이 걸리면 이 부분에서 액정을 움직여 빛을 통돠시킬지 여부를 결정하게 된다
발광할 부분의 모양을 tape를
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게 13초정도가 소요된다. 하지만 더 확실한 patterning을 위해 20초 동안 overdevelop을 한다. 그 후 DI water에 wafer를 담가서 더 이상 develop이 진행되지 않도록 한다. develop이 끝나면 wafer 표면의 DI water를 blowing(N2)으로 제거한다.
5. Hard baking
Develop으로 PR
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을 경우 error 메시지를 workstation을 통해 전달하고 해당 test pattern값과 상황을 log file로 작성하도록 하였다.
그림. Test pattern generation
그림. Emulation environment
아래 그림은 Emulation 환경을 도식화하였다. 이러한 Emulation을 통한 검증은 EISC를 포함한 B
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strate 위에 deposition된 film 만이 남게 되는 것이다.
CF) Pattern plating : thin film HIC 등과 같이 film을 비교적 두껍게 올려야 하는 경우 주로 사용하는 patterning 방식이다. 보통의 경우 deposition(thin&thick) a photolithography a etching의 순으로 patterning을 하는데
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러 가지가 있지만 대체적으로 방사환상형 (放射環狀型, radial system with loop pattern), 격자형 (格子型, grid pattern), 격자사선형 (格子斜線型, grid system with radial pattern), 다각형 (polygo pattern), 복합형 (composition pattern) 등으로 구분하고 있다.
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제거되고 substrate 위에 deposition된 film 만이 남게 되는 것이다.
CF) Pattern plating : thin film HIC 등과 같이 film을 비교적 두껍게 올려야 하는 경우 주로 사용하는 patterning 방식이다. 보통의 경우 deposition(thin&thick) a photolithography a etching의 순으로 patternin
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이용하는 기술로 감광성 수지를 자외선에 노광시키는 대신에 전자 빔을 이용하는 기술이다. 전자 빔을 소형회로의 Pattern형성에 응용하려는 연구는 1950년대 후반부터 시도 되었지만 그 실용성이 인식되기 시작한 것은 1965년경부터였으며, 최
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에 있어서도 남녀평등을 원칙으로 하고 부부가 협력하고 상호보충하는 민주형이 바람직하다.
* 허브스트의 4가지 유형
i) 부부자율형(autonomic pattern)
남편 혼자 결정하고 행동하는 영역과 부인 혼자 결정하고 행동하는 영역이 있으며, 각자의
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