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목차
photolithography
photoresist
positive negative
SU-8
procedure
subtrate pretreat
coat
soft bake
alignment&expose
post expose bake
develop
rinse&dry
hard bake
etching
remove
photoresist
positive negative
SU-8
procedure
subtrate pretreat
coat
soft bake
alignment&expose
post expose bake
develop
rinse&dry
hard bake
etching
remove
본문내용
Photolithography :
특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용
얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛 을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한 pattern을 형성시키는 공정
특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용
얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛 을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한 pattern을 형성시키는 공정
키워드
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- 페이지수26페이지
- 등록일2013.03.19
- 저작시기2011.5
- 파일형식기타(pptx)
- 자료번호#835032
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