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메모리 관리 기술의 효율적인 활용은 다양한 컴퓨터 시스템과 응용 프로그램의 성능을 극대화하는 데 큰 도움이 될 것이다.
필자는 이런 기술적인 이해는 물론 중요하지만, 이를 실제 시스템에 적용하고 최적화하는 과정 역시 매우 중요하다
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메모리 최적화에 대한 연구, 2005, 이화여대 과학기술원
(7) 박대혁, 이종 미디어로 구성된 멀티 미디어 연출을 DVD에 기록하는 방법, 2004, 숭실대 대학원
Web-Site
(1) http://www.keti.re.kr 전자 부품 연구원
(2) http://www.mk.co.kr 매일 경제
(3) http://www.valueadd
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메모리의 정의
2. 메모리의 동작
● Address bus와 data bus
● 메모리의 주소
3. 메모리의 성능 표시
● Access Time (tAC)
● Cycle Time (tCLK)
4. Memory Package 형태상 구분
● Simm과 DIMM
1)SIMM
① 30핀 SIMM
② 72핀 SIMM
2) DIMM
168핀 DIMM
5. Memory Chip
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Memory)
1. 상변화 기술이론
2. PRAM
3. 국내의 기술개발 현황
Ⅱ. FRAM (Ferroelectrics Random Access Memory)
1. FRAM의 도입
2. 이상적인 비휘발성 메모리, FRAM
3. 전기분극 벡터의 중요성
4. 잔류분극을 이용한 2진법 메모리, FRAM
5. FRAM 커패시터로서 요구
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사용
브로드캐스트 : 다수 슬레이브에 대한 쓰기, 멀티캐쉬 일관성 구현
타이밍 규약 : 마스터와 슬레이브의 동기화, 그림 5.2 1. 백플레인 버스 시스템
2. 캐쉬 메모리 조직들
3. 공유 메모리 구성들
4. 순차적, 약한 일치성 모델
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메모리 기술 개발과 이를 보조하는 전력관리반도체의 라인업을 선보이면서 삼성전자에서 추구하는 친환경 메모리소자 상용화에 한걸음 더 나아간 소식을 들었습니다. CXL기술은 AI, 빅데이터 등 고성능 연산이 필요한 어플리케이션에서 서로
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메모리 반도체의 성능 최적화와 관련된 문제 해결 과정에서 제 분석적 접근 방식은 회사의 연구 및 개발 노력에 기여할 수 있습니다.1. 지원 동기 및 입사 후 포부
반도체 산업의 글로벌 리더인 SK하이닉스에 지원하는 것은 제 전문적 경력에
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최적화를 위한 공정 개선과 수율 및 품질 조건 개선을 위한 공정 조건 개발을 하기 위해서 저는 2가지 근거를 바탕으로 해당 직무를 잘 수행할 수 있습니다.
첫째, 전공지식 습득입니다. 생산기술 업무 이해도를 높이기 위해 재료공학개론을
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최적화를 위해 XX을 촉매과 SiO2 사이에 1-5nm까지 1nm 차이로 증착하여 소자를 제작하고, 소자의 전기적 특성을 측정했습니다. 측정 결과 XX이 너무 얇으면 adhesion 문제가 해결이 되지 않았고, 너무 두꺼우면 오히려 저항이 커져 전기적 특성이 반
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