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5년까지 양산하겠다는 목표를 가지고 있으며 기존의 EUV 자체 기술력 또한 강화할 계획을 세우고 있다.
반도체 업계에서 ASML은 흔히 ‘슈퍼을’기업이라고 부른다. 보통 공급자는 수요에 맞춰 생산하며 제품단가는 수요자가 우위를 점하고 이
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, 나노급 반도체용 EUV 리소그래피
3. http://www.semipark <기술동향>, NGL 기술개발현황
4. 네이버 과학 백과사전 ● 서 론
● 나노급 반도체용 EUV 리소그래피 기술
● EUV 리소그래피 기술의 중요 쟁점
● 결론
● 출처 및 참고
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투영시키는 광학계가 저대역 필터(low-pass filter)로 작용하기 때문에 웨이퍼에 맺히는 상은 원래의 모양에서 왜곡된 형태가 나타난다. 이러한 방법은 반도체 칩에 집적된 소자 및 연결선의 최소선 폭이 작아짐에 따라 웨이퍼에 형성되는 패턴의
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lithography
- Double Pattering Tech.
- Double exposure Tech.
- Self-Aligned double patterning Tech.
- Immersion Tech.
- X-ray Tech.
- Nano-imprint Tech.
- EUV Tech.
◈ 각 타입에 대한 공정 Table과 그에 대한 세부 설명
1. Double patterning and exposure
『<
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ASML
1984년에 설립된 ASML은 Euronext 암스테르담과 미국 NASDAQ 증시에 상장되어 있습니다.
ASML은 상위 10위권의 반도체 제조사들을 고객으로 하며 칩 생산의 핵심 공정인 리소그래피 시스템 시장에서 2/3 이상의 점유율을 가지고 있습니다.
ASML은
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리소그래피 공정을 설명한다고 생각하고 설명해보세요.
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본인의 전공 활용을 어떤 방식으로 할것인지?
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반도체가 기억을 저장하는 원리에 대해서 본인의 전공에 빗대어 설명해주세요.
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자신이 했던 업무중 문제해결 경험을 상세히 설명
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니다.
문제가 발생했을 때, 다방면으로 고려하여 문제를 해결하는 ASML의 CSE가 되겠습니다.
[입사 후 포부]
CSE는 고객사에게 빠르고 정확한 솔루션을 제공하는 전문성이 필요하며, 다음의 노력을 통해 리소그래피 장비의 Master로 거듭나겠습니
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1. WHY ASML
[GAME CHANGER]
ASML은 산업군에서 불가능하다고 여겨지던 극자외 광원을 이용, EUV 노광공정은 7나노, 3나노 등 초미세반도체의 생산을 이뤄냈습니다. EUV의 개발에 따라 기술은 진보하게 되었으며, 기존 노광공정에서 Gamechanger로서 새로
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