표면공학 (PVD)에 대해서

목차

1. 서론
2. PVD법　
　2.1 PVD 란?
　2.1 PVD 원리
　2.3 PVD 개요
　2.4 PVD 영상
　2.5 PVD 장·단점
3. PVD 종류
　3.1 PVD 종류
　3.2 증발 (아크증발법)
　3.3 이온도금 (이온주입법)
　3.4 스퍼터링
　　3.4.1 강화된 스퍼터링
4. PVD 장비
5. 진공의 필요성
6. 박막 성장 기구
7. PVD 코팅층의 미세구조
8. PVD 적용 예
9. 제조공정
10. 최근 연구 동향

본문내용

1. 서 론
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PVD를 이용한 코팅은 왜 하는가?


왜 이런 방식의 코팅을 하느냐?
이런 시계와 같은 경우 일반적인 코팅 (도장 따위의..)으론 감당이 안되기 때문에
심미성을 추가한 내마모성, 내소착성, 내식성, 내산화성을 주목하기 위해서!!




2. PVD 법
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1. PVD

　● PVD = Physical Vapor Deposition (물리증착법)

2. PVD 의 원리

　● 섭씨 150-500도 사이의 고 진공 상태에서 진행
　● 고 순도 금속 코팅 재료는 열에 의한 기화 또는 이온 충격으로 기화되어 모재에 코팅
　● 유입된 반응 가스는 기상 상태의 금속과 반응하여 화합물을 형성하여 공구 또는 부품의 표면에 강한 밀착력을 가진 박막을 형성
　● 균일한 코팅 두께를 형성하기 위하여 코팅 공정 시 여러 축에 치구된 제품들은 일정한 속도로 회전




2. PVD 법
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3. PVD 개요

　● PVD 란? 진공증착, 스퍼터링, 이온 플레이팅을 총칭하는 용어

　≪ 그 림 ≫

키워드

표면공학,   PVD,   PVD 종류,   PVD 장비