5.[예비] ITO scribing and cleaning

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파장은 산소 분자로 부터 오존을 만들고 유기물로부터 제공된 수소, 탄소와 결합하여 유기물울 제거하게 된다.
한편 자외선 세정기에서 제공하는 OZONE(O3)는 각종 기판의 표면과 화학적, 물리적으로 반응하여 필름의 부착력을 향상시킨다. 이러한 성능은 고가의 플라즈마 표면처리장치를 대체할 수 있다. [8]
Methanol
알코올 동족체 중에서 구조가 가장 간단한 것으로, 물의 수소원자 1개를 메틸기 -CH3로 치환한 것. 메틸알코올이라고도 한다. 분자식 CH3OH. 분자량 32.04, 녹는점 -97.8℃, 끓는점 64.65℃, 비중 0.7928. 메탄의 수소원자 1개를 하이드록시기 -OH로 치환한 것으로 간주하여 메탄올이라 한다. 또, 전에는 목재의 건류에 의한 목초액에서 얻었기 때문에 목정이라고도 한다. 천연색소·알칼로이드·리그닌 등에 다이메틸이써의 형태로 함유되어 있고, 또 살리실산이나 안트라닐산의 메틸에스터의 형태로 자스민유 속에도 함유되어 있다. 독성이 있는 무색의 휘발성 액체로, 에탄올 비슷한 냄새가 난다. 물·에탄올·이써 등에 임의의 비율로 섞인다. 가연성이며 인화점은 16℃이다. 백금흑분·산화구리의 존재하에 산화시키면 포름알데하이드로 되고, 더 산화시키면 폼산에서 이산화탄소로 된다. [9]
이름
화학식
녹는점
끓는점
분자량
밀도
Methanol
CH3OH
-97.6℃
64.7℃
32.04g/mol
0.7918g/cm3
[10]
초음파 세척기
초음파 세척은 초음파의 캐비테이션 효과 및 입자가속도효과를 이용하는 것으로 특히 캐비테이션은 기포의 진동에 따른 Micro-Agitation과 기포의 파괴로 인한 화학적, 열적작용을 수반한다. 이러한 작용으로 세척액 중에서 화학반응의 촉진과 분산작용이 증가하여 부착되어있는 이물질을 제거하고 정밀세척이 이루어진다.
[11]
6. 실험방법
1)ITO 기판의 Scribing
①ITO coating면을 위로 향하게 하여Scriber 위에 올려놓고 진공펌프를 작동시켜 고정시킨다.
② 원하는 크기(35mm×35mm)의 Size로 ITO Glass를 자르고 질소(또는 에어)를 이용하여 유리가루 등의 이물질을 불어낸다.
2)ITO 기판의 전처리 방법
ITO를 전처리 하는 방법은 다양하지만 아래 설명한 두가지 방법중 한가지 방법을 이용하여 전처리 과정을 연습해 본다.
① Toluene(20분)→ DI rinse(10분)→ IPA(20분)→ DI rinse(10분)→ MeOH(10분)→ DI rinse(10분)→질소로 물기제거→Oven 건조(100℃, 15분)→UVO Clean(10분)
② Detergent(Alconoxⓡ) Acetone(20분)→DI rinse(10분)→IPA(20분)→DI rinse(10분)→질소로 물기제거→Hot plate 건조(110℃, 10분)→UVO Cleaning(10분)
7. 참고문헌
[1]. http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=654138&cid=42326&categoryId=42326
[2]. http://ko.wikipedia.org/wiki/%EC%95%84%EC%9D%B4%EC%86%8C%ED%94%84%EB%A1%9C%ED%95%84_%EC%95%8C%EC%BD%94%EC%98%AC
[3]. http://en.wikipedia.org/wiki/Isopropyl_alcohol
[4]. http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=1153239&cid=40942&categoryId=32251
[5]. http://en.wikipedia.org/wiki/Toluene
[6]. http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=607306&cid=42420&categoryId=42420
[7]. http://en.wikipedia.org/wiki/Acetone
[8]. http://www.92jse.com/UVO_cleaner.htm
[9]. http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=513897&cid=42407&categoryId=42407
[10]. http://en.wikipedia.org/wiki/Methanol
[11]. http://sun.uos.ac.kr/info/usclean/usclean.htm
[12]. 플라즈마와 UV/O3를 이용한 반도체 표면세정(인하대학교 대학원금속공학과 임 종 민) 논문 발췌
[13]. 세정기술자료 Excimer/UV 세명백트론(주) SMT 발췌

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