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논문 1건

[논문] 홀로그래픽 리소그래피 공정을 이용한 분광기 제작
공정을 이용하여 주기 500nm, 선폭 250nm의 패턴을 형성하였다. 이러한 패턴을 반응성 이온 식각 공정(RIE;Reactive Ion Etching process)과 UV 몰딩 공정을 사용하여 광 투과성 분광기를 제작 하였다. 이러한 공정은 전자빔 리소그래피(e-beam lithography)나 포
홀로그래픽|리소그래피|RIE|분광기|UV molding|UV imprinting|Photoresist|노광, 홀로그래픽 리소그래피 공정을 이용한 분광기 제작,
  • 페이지 26페이지
  • 가격 3,000원
  • 발행일 2010.03.05
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 발행기관
  • 저자
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