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laser (λ= 632.8nm, θm= -39°)
Fig 3.5> Diffracted He_Cd laser (λ= 442nm, θm= -14°)
IV. 결 론
본 연구는 홀로그래픽 리소그래피 공정을 이용하여 주기 500nm, 선폭 250nm의 패턴을 형성하였다. 이러한 패턴을 반응성 이온 식각 공정(RIE;Reactive Ion Etching process)과 UV
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레이저를 이용한 광통신에 이어 또 다른 빛의 혁명이 시작되고 있다. 고휘도 LED를 이용한 반도체 조명이 그 주역이다. 반도체 기술의 획기적인 발달로 빛의 삼원색인 적색, 녹색, 청색뿐만 아니라, 적외선, 자외선 영역의 빛과 또한 이를 이용
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이용한다. 그 개략도는 그림[3-1]과 같다.
[그림3-1]프리틸트각 측정
측정기 내부에 있는 편광자와 검광자는 평행하고 검출기를 통해 프리틸트각을 측정하는 방법이다. 사용되는 레이저는 He-Ne 레이저로 파장은 632.8nm 인 단일파장 광원이 사용된
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레이저 열처리법
ELA 방법에 의한 다결정 실리콘‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥6
(1) 결정화 순서
(2) 공 정
(2-1) 전반적 공정
(2-2) ELA 공정
(2-3) SLS 공정
(2-4) ELA & SLS 공정 비교
(2-5) CGS 공정
(2-6) MIC
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laser
작동 시 청 녹색의 빛을 내며 blood 있는 곳 에서만 작동됨
CO₂laser
*조직의 절개, 절제에 주로 이용
*빛의 형태를 이용하여 흉터, 모반(점)제거 시 사용(PS)
*laryngeal polyp제거시 사용(ENT)
Cusa(초음파 분쇄기)
*liver 자를 경우 사용(GS)
*tumor 수술
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laser
작동 시 청 녹색의 빛을 내며 blood 있는 곳 에서만 작동됨
CO₂laser
*조직의 절개, 절제에 주로 이용
*빛의 형태를 이용하여 흉터, 모반(점)제거 시 사용(PS)
*laryngeal polyp제거시 사용(ENT)
Cusa(초음파 분쇄기)
*liver 자를 경우 사용(GS)
*tumor 수술
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