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D램 메모리 기술 개발과 이를 보조하는 전력관리반도체의 라인업을 선보이면서 삼성전자에서 추구하는 친환경 메모리소자 상용화에 한걸음 더 나아간 소식을 들었습니다. CXL기술은 AI, 빅데이터 등 고성능 연산이 필요한 어플리케이션에서
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D램과 낸드 플래시를 비롯해 메모리 분야...…<중 략>
답변 글자 수: 721자 (공백 포함)
· 본인의 성장과정을 간략히 기술하되 현재의 자신에게 가장 큰 영향을 끼친 사건, 인물 등을 포함하여 기술하시기 바랍니다.
제 성장과정은 호기심
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D램과 낸드플래시 등 메모리반도체를 중심으로 CIS와 같은 시스템반도체 등을 제조 공정하면서 저의 능력을 최대한 발휘하고 싶습니다. SK하이닉스는 1984년 국내 최초로 16Kb S램을 시험생산한 이래, 세계 최초,최대,최고속,최저전압의 혁신적인
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D램, MCP(multi chip package) 및 시스템 반도체 등의 패키징 라인의 기술력을 발전시키고 국내 뿐만 아니라 글로벌 경쟁기반을 다지겠습니다. STS반도체통신은 메모리 제품이 90%을 넘을 만큼 메모리 제품에 편중돼 있던 사업 분야를 과감히 전환할
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D램과 낸드플래시의 차이점은 무엇인가?
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pmic 전압이 떨어지는데 무슨 원인이라고 생각하는지?
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마진과 여러 메모리 특성을 주고 이때의 cross-point bit 수를 계산 할 수 있겠는가?
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우리 회사가 현재 차세대 메모리 개발로써 가고 있는 방향
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메모리소자와 각 공정의 순서,장비,방법에 대해서 학습하였습니다. 그리고 진공,플라즈마를 사용하는 Dry Etch와 고집적화 etch에 필요한 ALE에 대해 공부할 수 있었습니다. 이러한 저의 8대공정과 진공 플라즈마에 대한 지식은 공정을 이해하는
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메모리 반도체 2위라는 명성을 가지고 있습니다. 전자 통신 산업의 품질 고급화를 선도하기 위해 선진기술을 들여어고 이에 따른 축적된 기술과 능력을 바탕으로 품질을 고급화하고 새로운 제품인 D램과 낸드플레시를 개발하고 국제경쟁력
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