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반도체집적회로(mask works, IC-layout), 생명공학, 상품화권(merchandising rights), 영업비밀(trade secrets) 등 신지식재산권은 물론 know-how, database, 혁신능력 등 인간의 무한한 지적창작활동으로 그 영역이 확대되어가고 있는 추세이다. 따라서 우리는 현재
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반도체집적회로 배치설계권 등 신지식재산권이 등장
Ⅴ. 지식재산권(지적재산권)의 동향
1. 미국 특허소송에서의 손해배상액의 고액화
2. 미국에서 특허사건전담 항소법원(CAFC) 창설
3. WTO 체제에서의 지적재산권보호 강화
4. 특허법원의
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반도체집적회로 배치설계권침해 : 3년 이하 징역 또는 5천만원 이하 벌금; 형 법 ① 비밀침해 : 3년 이하 징역 또는 500만원 이하 벌금 ② 업무상비밀누설 : 3년 이하 징역 또는 700만원 이하 벌금 ③ 절 도 : 6년 이하 징역 또는 1천만원 이하 벌금
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반도체 직접회로 공정과목에 대한 예행 실험으로 생각되어, 과목을 수강 시 많은 도움이 될 것 같다.
10. 참고문헌
가. 서적
반도체 공정기술, 황호정 저, 생능출판사
공정플라즈마 기초와 응용, Alfred Grill 저, 정진욱 역, 청문각
직접회로 제
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(4) 실리콘 양자 소자
Si-화합물 조합 복합 반도체가 주를 이룸.
CMOS회로와 집적 기술 개발 추진.
실리콘 발광소자의 종류
- 저차원 시스템
- 불순물(Er) 주입
- 신물질(실리사이드)
2. 국내 연구동향
차세대 추진동력 과제
- 초고속
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반도체 공학, 복두출판사, 1995, pp.218
4. 김형열, 반도체 공정 및 측정 , 전자자료사, 1995, pp.123
5. 이종덕, 실리콘집적회로 공정기술, 대영사, 1997, pp.149
6.반도체 산업 및 반도체 재료 산업의 실태와 전망, 데이콤 산업연구소,1998,pp.117 실리콘
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집적회로공학, 경문사
Hiroshi Okuzawa 저, 양해권 역(1997), 트랜지스터기초, 기다리 Ⅰ. 개요
Ⅱ. 터널다이오드 트랜지스터의 동작(작동)
Ⅲ. 금속산화막반도체 트랜지스터의 동작(작동)
1. Depletion MOS FET
2. Enhancement type
Ⅳ. 이미터 트랜
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회로, 복두출판사
○ 김종훈(1998), 전자공학개론, 정림사
○ 반도체공학, 일진사
○ 이형옥, 집적회로를 위한 반도체 소자
○ 정학기, 알기쉬운 반도체 세미나
○ 천흥지, 반도체의 동료들, Gb 기획센터
○ Sedra·Smith, 마이크로 전자회로 Ⅰ.
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반도체
1. 규모(집적도)에 따른 분류
1) SSI(Small Scale Intergration)
소규모집적회로(100개 미만)
2) MSI(Medium Scale Intergration)
중규모집적회로(1000개 미만)
3) LSI(Large Scale Intergration)
대규모집적회로(10만개 미만)
4) VLSI(Very Large Scale Intergration)
초대규모집적
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반도체와 정보화사회, 시그마프레스, 1999
신종홍, 컴퓨터 구조와 원리, 한빛미디어, 2011
김상진, IC에 의한 디지털 논리회로, 연학사, 2001
성평식, “마이크로프로세서 응용,” 연학사, 2010
최인수, 마이크로프로세스 개론, 기술과학사, 2009
박영
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