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보상제도, 평가 방식 등을 빠르게 숙지하고, 담당 부서의 운영 흐름과 현업의 니즈를 정확히 파악하는 일에 집중하겠습니다. 특히 인사 정보 시스템(HRIS), 근태관리, 복리후생 운영, 채용 일정 조율 등의 반복 업무도 단순하게 처리하는 것이
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DB하이텍의 고객 대응 전략과도 잘 부합한다고 생각합니다. 입사 후에는 신규 제품 대응 및 기존 공정 고도화는 물론, Etch 공정의 Defect 저감과 공정 자동화 수준 향상을 통해 실질적인 품질 개선에 기여하고자 합니다. 궁극적으로는 Fab 전체 공
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DB하이텍의 시설 안정성과 생산라인 연속 가동성 확보에 기여하고자 합니다. 입사 후에는 신규 UT 시스템 구축 및 기존 설비의 신뢰성 향상, 유해화학물질 관리 고도화, 설비 자동화 및 에너지 최적화 프로젝트를 통해 실질적인 개선 성과를 도
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DB하이텍의 기술 자산을 체계적으로 관리하고, 글로벌 고객 대응 수준을 한층 끌어올릴 수 있다고 확신합니다. 입사 후에는 기술문서 표준화 및 다국어 문서 대응 체계를 정립하고, AI 기반 문서 관리 도구 활용 등을 통해 기술문서의 생산성과
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DB하이텍의 설계 환경(PDK) 고도화에 기여할 수 있다고 확신합니다. 입사 후에는 기존 아날로그 소자뿐만 아니라, HV MOS, LDMOS, BCD 기반 복합 모델 개발 등에도 참여하고, AI 기반의 모델 최적화 기법과 반자동화된 측정-추출 프로세스를 통해 SPICE
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DB하이텍의 SiC 플랫폼 고도화에 기여하고자 합니다. 입사 후에는 SiC MOSFET 및 SBD(Schottky Barrier Diode) 기반 제품의 구조 최적화, 공정 수율 향상, Gate 산화막 신뢰성 확보 등 실질적인 과제를 주도할 수 있으며, 장기적으로는 SiC Hybrid Module 또는 SiC+G
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DB하이텍의 아날로그·BCD·전력 공정별 PDK 품질을 고도화하고, 고객 설계 효율성과 Tape-out 성공률을 높이는 데 기여하고자 합니다. 또한, 최신 EDA 툴 환경에 발맞춰 Python 기반 자동화 스크립트, AI 기반 모델 최적화 도입 등 차세대 PDK 체계 구현
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DB하이텍의 차세대 전력 반도체 기술 개발에 제 경험을 접목시켜, 전력 소자에서의 고속 스위칭 성능을 더욱 향상시키는 데 기여할 것입니다. 향후에는 다양한 전력 응용 분야에서 DB하이텍의 MOSFET 기술이 경쟁력을 가질 수 있도록, 지속적으
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DB하이텍의 고객 품질 만족도를 더욱 높이고, 나아가 Smart Implant Control 및 AI 기반 이상 탐지 체계 구축에까지 기여하고자 합니다. 1.지원 분야 및 직무 역량과 관련된 프로젝트/연구/경력사항에 대해 작성해 주십시오. (최소 100자, 최대 500자
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DB하이텍의 공정 플랫폼에 적합한 FS IGBT 또는 Trench IGBT 공정 모듈 안정화에 참여하고, 전력 손실을 최소화하면서도 생산 효율을 극대화할 수 있는 공정 개선 활동을 적극적으로 수행하고자 합니다. 나아가, Si 기반뿐만 아니라 향후 SiC 기반 Hybr
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