|
타낸다. n은 금속에서는 2, 반도체에서는 5/4
이다. 텅스텐은 2700K(W는 4.5정도)이다.
또한 열전자 방출에너지는 W=kT[J] (단, 볼츠만의 상수 k=1.38062×10-23[J/K]
T는 절대온도이다.) 로 계산할수 있다.
3. 결론
물질에서 전자를 떼어내기 위해서는 열이
|
|
|
6.5 ×10 m)
감은횟수 (N) ; 260회 (130×2 =260)
(2) 가속전압 ; 150[V] I = 0.91 [A]
진공상태 투자율 : 1.26× 10 H/m
7. 소감
이번 실험을 통해서 오로라 현상까지 공부할 수 있었다.
그냥 실허 방법만 보면서 하고 있던 실험이였는데 도대체가 뭘 말하는지 잘
|
|
|
전자총으로서 필라멘트와 Wehnelt shield로 구성되어 있다. 필라멘트는 작은 전류에 의해서 가열되어서 열전자를 방출하고, 25kV-400kV의 전압이 걸려있는 cathode에 의해서 이동하게 된다. 전자현미경의 나머지 부품들은 접지되어서 0volt의 전위에 놓
|
|
|
개의 전원회로: 필라멘트전원, 전자가속전원, 헬름홀츠 코일 전원
4.실험방법
(1) 필라멘트에 전원을 인가한다. 예열 시간은 10초 정도이다.
(2) 전자가속전압을 서서히 증가시켜 250V 정도에 이르게 한다.
(3) 전자빔을 관찰하면서 헬름홀츠 코일
|
|
|
전자빔 가공의 개념
╋━━━━━━━━━━─────────
❖ 전자빔은 전자총에서 방출되는 전자빔을 물체에 쬐어서 금속 ·보석류 그 밖의 재료를 가공하는 가공법
❖ 전자빔 : 음극 필라멘트를 가열하면 열 전자가 방출
|
|
|
전자의 등속원운동
→ 균일한 자기장에 수직하게 입사한 전자는 등속 원운동을 한다. 그 이유는 자기력 이 전자의 방향과 수직을 이루며 자기장과도 수직이므로 구심력으로 작용하게 되 기 때문이다.
(3) 전자가속 장치의 원리
→ 필라멘트의
|
|
|
필라멘트 음극에 의하여 방출된 전자는 양극에 가해 준 전위차에 의해 계속 가속 되고 전자의 초기 운동에너지를 같는다. 양극에 있는 작은 구멍을 통하여 전자가 자기장이 있는 곳으로 들어가면 전자는 속도와 자기장에 수직한 방향으로 힘
|
|
|
전자현미경 SEM
┗━━━━━━━━━━─────────…
◎ 선원의 종류에 다른 SEM의 분류
≪ 그 림 ≫
1) 열방사형 전자총(Thermionic emission)
가장 많이 사용하는 필라멘트로 텅스텐선을 V자로 구부린 3극 Hair pin type을
사용한
|
|
|
전자현미경내에서 전자비임의 진행을 방해하는 공기속의 분자들을 제거한다.
전자총 - 텅스텐 필라멘트, Wehnelt 전극, 양극판으로 구성.
⇒ electron beam의 세기 : 필라멘트의 온도, 전류 밀도, 가속전압에 의존
자체 바이어스가 인가된 전자총
|
|
|
필라멘트가 달구어질 때까지 기다린다.
(2) 전자 가속전압을 0V에서부터 서서히 증가시켜 가속전압이 150V가 되게 한다.
(3) 필라멘트가 달구어지면 양전극의 작은 구멍을 통과하는 전자선속이 관찰된다. 양전극에 흐르는 전류를 측정하고, 필라
|
|
메뉴펼치기
