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수 : 3*1014분자/cm3
일반적으로 공업적으로 사용하는 플라즈마
- 만개/백만개의 분자나 원자중에 한 개가 이온화 된 플라즈마란 무엇인가?
플라즈마의 생성
플라즈마의 특성
Chamber안에서의 DC플라즈마
Chamber안에서의 RF플라즈마
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Plasma란?
Plasma의 생성
Plasma의 특성
Chamber 내에서의 DC 플라즈마
Chamber 내에서의 RF 플라즈마
Symmetrical System
Asymmetric System
이온화 된 기체
→ 물질의 제4상
구성 :
(-) 전위의 전자
(+) 전위의 이온
이온화 되지 않은 자연상태의 원자와 분
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Plasma Property Variation as a result of the Particulate Contamination I. 서론
II. 용량결합형 RF 여기 CH4 플라즈마를 이용한 DLC (Diamond-like-Carbon)막 증착 공정 중의 미립자 발생 및 행동양식.
III. 플라즈마-미립자간의 상호작용에 의한 RF 방전특성의
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된다. 이러한 자기적 특성을 이용하면 전압을 상승시키지 않고 높은 밀도의 플라즈마를 생성시킬 수 있다.
DC에서의 플라즈마 / RF에서의 플라즈마
- DC를 사용할 때 Cathode가 전기를 통하지 못하는 부도체일 경우 Cathode에서 이온에게 전자를 제
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RF로 바꾸어서 모든 물질이 가능하게 하였다.
Ⅱ.진공펌프.
진공펌프는 플라즈마 공간의 내부.
챔버내에 있는 기체분자를 제거하여 진공상태로 만들기 위하여 사용하는 것이다. 진공펌프는 배기원리와 사용조건에 따라 매우 다양한 펌프들이
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특성 ㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍ 2
1.3 Nano Technology의 발전의 원동력 ㆍㆍㆍㆍㆍ 2
1.3.1 나노기술의 경제·사회적 요소 ㆍㆍㆍㆍㆍㆍ 2
1.3.2 나노기술의 과학기술적 요소 ㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍ 3
1.4 나노기술의 분류 ㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍ
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특성
1.3 Nano Technology의 발전의 원동력
1.3.1 나노기술의 경제·사회적 요소
1.3.2 나노기술의 과학기술적 요소
1.4 나노기술의 분류
1.4.1 전자 / 통신 분야
1.4.2 환경 / 에너지 분야
1.4.3 생명공학 분야
2. 나노 분말과 나노재료
2.1. 나노
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플라즈마를 만들려면 흔히 직류, 초고주파, 전자빔 등 전기적 방법을 가해 플라스마를 생성한 다음 자기장 등을 사용해 이런 상태를 유지 하도록 해야한다.
[네이버 지식백과] 플라즈마 [Plasma] (시사상식사전, 2013)
Target-Ti 특성
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특성은 플라즈마법과 동등한 수준이고 성막속도는 보통 램프광을 이용한 광 CVD법보다는 빠르지만 대면적화가 곤란하여 이것을 고려한 레이저광원이나 장치구성 개발이 필요하다. 1.실험목적
2.이론적배경
3.장치에 대한 원리와 방법
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특성을 갖는 칩이 완성되게 되게 된다.
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주요 반도체 관련 회사 : wafer 제조/chip 제조(fabrication)/조립(assembly)/
fab + assembly/Lead Frame 제조/EMC(몰드수지)/공정별 제조 설비 및 원부자재 etc..
Assembly 공정중 Front공정까지 소개 했습니다.
추후 Backend 공
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