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논문 27건

TFT-LCD 산업 경쟁력 향상 방안” 한국정보디스플레이 학회지 제2권 제1호, 2001.2 - TFT-LCD Research Center, “TFT-LCD의 부품 및 재료기술, TFT-LCD의 설계 및 공정 기술” - 김차연, “BLU 기술동향” 한국정보디스플레이학회지 제2권 제1호, 2001.2 - “인포
  • 페이지 31페이지
  • 가격 3,000원
  • 발행일 2010.01.16
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 발행기관
  • 저자
TFT-LCD 산업 경쟁력 향상 방안” 한국정보디스플레이 학회지 제2권 제1호, 2001.2 - TFT-LCD Research Center, “TFT-LCD의 부품 및 재료기술, TFT-LCD의 설계 및 공정 기술” - 김차연, “BLU 기술동향” 한국정보디스플레이학회지 제2권 제1호, 2001.2 - “인포
  • 페이지 35페이지
  • 가격 4,000원
  • 발행일 2010.03.05
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 발행기관
  • 저자
공정 (2-2) ELA 공정 (2-3) SLS 공정 (2-4) ELA & SLS 공정 비교 (2-5) CGS 공정 (2-6) MIC & MILC (3) 저온 폴리실리콘 결정화 형성 기술 비교 󰊵 Poly-Si TFT-LCD의 응용‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥·‥‥‥‥‥‥16 󰊶 a-Si와 L
  • 페이지 30페이지
  • 가격 3,000원
  • 발행일 2010.01.16
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 발행기관
  • 저자
제조 공정과 장비”, 내하 출판사 LCD history < http://en.wikipedia.org/wiki/laptop#history> Liquid crystal display <http://en.wikipedia.org/wiki/lcd_monitors> 제 1 장 LCD DISPLAY 1.1 LCD란? 1.2 구동원리 1.3 구조 제 2 장 LCD MODE 2.1 TN
  • 페이지 9페이지
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  • 발행일 2009.12.14
  • 파일종류 한글(hwp)
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  • 저자
제조공정, Guide to, 작자미상, IT SoC Magazine [16] LED 산업동향 및 주요이슈, 최재호, 전자장보센터(EIC), 2007. 8 [17] LED조명, 한국에너지자원기술기획평가원, 그린에너지 전략 로드맵, 20009. 4 제 1 장 서 론 4 제 2 장 본 론 5 2.1 LED의 기초적
  • 페이지 31페이지
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  • 발행일 2010.03.24
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  • 저자
제조공정 3.1 CIGS 태양전지 연구 필요성 및 개요 3.2 CIGS 태양전지의 핵심 제조기술 3.2.1 기판(Substrate) 3.2.2 배면전극(Back contact) 3.2.3 광흡수층 3.2.4 완충(Buffer) 층 3.2.5 윈도우(Window) 층 3.2.6 반사방지막과 전극 3.
  • 페이지 52페이지
  • 가격 3,000원
  • 발행일 2009.02.03
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  • 발행기관
  • 저자
제조에서 오랜 기간 동안 숙성 발효시키면서 소비해야 하므로 부패 미생물의 오염을 방지하여 저장을 용이하게 하기 위하여 소금을 많이 사용하게 되였다. 이것은 제조 공정상에서 생긴 문제점이다. 또 하나의 문제는 재래식 장류의 특징적
  • 페이지 22페이지
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  • 발행일 2009.02.26
  • 파일종류 한글(hwp)
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  • 저자
740~760mmHg - 건조시간: 6시간 분 쇄 ㆍ 40 mesh 검 사 ㆍ 일반분석 ㆍ 관능검사 제 품 화 (Powder) ㆍ Seasoning 및 Blending 원료 ㆍ Meat Flavor 제품화 <그림 2. Meat Flavor의 제조 공정 > 원료 선정 ㆍ HVP, Yeast extract, 정제염, Palm oil, glucos, MSG, IG, Na2CO3 반
  • 페이지 11페이지
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  • 발행일 2011.04.02
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  • 저자
공정성의 개념과 속성 4 제 2 절 공정성이론에 대한 선행연구 5 1. 분배공정성에 대한 선행연구 6 2. 절차공정성에 대한 선행연구 10 3. 분배공정성과 절차공정성간의 관계 15 4. 노조상황에서의 절차공정성 17 제 3 절 노조지원에 대한 선
  • 페이지 63페이지
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  • 발행일 2011.06.04
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  • 저자
공정을 이용하여 주기 500nm, 선폭 250nm의 패턴을 형성하였다. 이러한 패턴을 반응성 이온 식각 공정(RIE;Reactive Ion Etching process)과 UV 몰딩 공정을 사용하여 광 투과성 분광기를 제작 하였다. 이러한 공정은 전자빔 리소그래피(e-beam lithography)나 포
  • 페이지 26페이지
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  • 발행일 2010.03.05
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