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SiO2 첨가량이 증가함에 따라 평균 결정립 크기가 감소하고 있음을 확인할 수 있다. 1180℃에서 소성한 시편은 대부분 치밀화가 이루어지지 못하여 다량의 기공을 함유하고 있었으므로 선명한 사진을 얻을 수가 없었다.
<그림10. SEM micrographs of
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친 것을 확인 할 수 있었다. 차이가 발생한 이유로는 휘발, 증발 같은 오차요인을 막지 못한점, 이론값과 우리 실험실의 실험 환경이 달랐던 점 등이 예상 된다.
5. 참고문헌 :
[1] - Hand-out
[2] - http://iopscience.iop.org/1402-4896/85/5/055601/pdf/1402-4896_85_5_
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anguage=ko&productNumber=W4
502&brand=SIGMA&PageToGoToURL=http%3A%2F%2Fwww.sigmaaldrich.com%2Fcatalog%2Fsearch%3Finterface%3DAll%26term%3DH2O%26N%3D0%26mode%3Dmatch%2520partialmax%26focus%3Dproduct%26lang%3Dko%26region%3DKR
[19] - http://www.sigmaaldrich.com/MSDS/MSDS/DisplayMSDSPage.do?country=KR&l
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날 때까지 기다렸다가 실험을 하였다. 실험시간을 단축하기 위해 중탕액(물)에 뜨거운 물을 섞어서 온도를 빨리 올려주었다.
● 실험방법 중 주의사항에 TEOS와 TTIP는 공기 중의 수분과 반응성이 있으므로 가능한 빠르게 처리하여야 한다고 하
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화성암을 정출과정에서 F(FeO + Fe2O3)의 함량비 변화를 토대로 두 계열의 화성암을 구분할 수 있다. 1. 화성암의 정리
2. 색에 따른 분류
3. SiO2함량에 따른 분류
4. 생성 깊이에 따른 분류
5. 쏠레아이트질 마그마와 칼크알칼리질 마그마
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SiO2 식각
식각 용액은 주로 HF과 NH4F의 혼합액을 사용
화학 반응식은 SiO2 + 4HF ↔ SiF4 + 2H2O
종말점 확인은 산화막의 친수성과 실리콘의 척수성
을 이용하여 현미경으로 물방울 형성을 확인하면 알
수 있다.
Si3N4 식각
식각 용액은 H3P
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SiO2-Si
6) 규산규소 표준용액
표준원액 25mL를 취해 증류수를 더해 250mL 되게 희석하여 폴리에티렌병에 보관한다.
이용액 1mL = 1㎍-at SiO2-Si
라. 조작
50mL 시수를 취하여 1mL HCl(1+1)과 2mL 몰리브덴산 암모늄 용액을 넣고 잘 혼합 후 5-10분 정치한다. 여
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이돔, 제트엔진용 블레이드
SiO2-Al2O3/SiO2
어블레이션(열흡수)
C/C
로케트 엔진, 노즐 및 스커트
고인성
고융점 금속섬유/Al203-SiO2
내화물
저열팽창
치수안정성
SiC(w)/유리, C/C
안테나, 핫프레스용 다이
열전도율
고열전도율
열교환기, 브레이크
저
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t is attacked by hydrofluoric acid with the production of silicium fluoride
SiO2+ 4HF → SiF4↑+ 2H2O
SiF4 와 SiF62- 이 SiO2보다 더 안정하므로 반응이 진행된다
SiF4는 gas이며, 물에서 silice의 침전/fluosilicic acid (SiF)의 형성과 함께 분해된다
(the formed silicium fluoride is gaseou
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t is attacked by hydrofluoric acid with the production of silicium fluoride
SiO2+ 4HF → SiF4↑+ 2H2O
SiF4 와 SiF62- 이 SiO2보다 더 안정하므로 반응이 진행된다
SiF4는 gas이며, 물에서 silice의 침전/fluosilicic acid (SiF)의 형성과 함께 분해된다
(the formed silicium fluoride is gaseou
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