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CVD
화학기상성장법 [化學氣相成長法, chemical vapor deposit
IC(집적회로) 등의 제조공정에서 기판 위에 규소 등의 박막을 만드는 공업적 수법으로 약칭은 CVD이다. 화학물질을 포함하는 가스에 열이나 빛으로 에너지를 가하거나, 고주파로 플라스
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공정별 2차원 패턴을 새긴 순수 석영판
2. Cr을 이용해 빛 투과여부를 조절 가능
3. Wafer에 형성될 패턴보다 4~5배 정도 확대된 패턴 형성
4. 메모리공정의 경우 25~30장 사용
<CVD(Chemical Vapor Deposition)>
1. 농도차로 인한 확산
2. Wafer 표면 위
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Volmer - Weber Mode
▶ Stranski - Krastonov Mode
▶ Frank van der Merwe Mode
▶ 화학 증착법
▶ Thermally activated CVD
▶ CVD sources used and criteria for choice
▶ Hot wall reactor
▶ Cold wall reactor
▶ Parallel flow
▶ Normal flow
▶ 율속지배단계
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공정은?
반도체 소자 제작에 많이 사용되는 박막은 열적 성장이나 물리적 증착, 혹은 화학 반응에 의해 증착되는 금속, 반도체, 부도체의 얇은 층을 말한다.
박막 제조의 대표적인 4가지 방법은 다음과 같다
1) 화학 기상증착 (CVD : ch
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가. 공정 순서
<1> 웨이터(Water) 제작
<2> 설계 및 공정
<3> TEST 및 Package(조립 및 검사)
나. 공정에 대한 설명
<1> 사진공정(Photolithography)
<2> 화학기상 증착( CVD )
<3> 금속화 공정(MENTALIZATION)
<4> 산화공정(Oxidation)
<5> 확산공정(Diffusion)
<6>
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