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발전되어 ‘나노’ 강국이 되었으면 하는 바람을 가져 본다.
<< 관련 그림 >>
그림 4. UV-NIL 작업 공정 그림 5. multi-dispensing 공정 그림 6. multi-dispensing 공정 결과
그림 1. 탄소나노 튜브 그림 2. 연잎 효과 그림 3. 나노 로봇
<< 참고 자
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리소그래피와 나노임프린트 리소그래피를 결합한 리소그래피 방법, 주식회사 하이닉스반도체, 2007
성준경, 이온 주입 장치 및 이온 주입 방법, 주식회사 동부하이텍 , 2007
<논문>
J. K. Jeong et al., “Origin of threshold voltage instability in indium-galli
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다하도록 노력하여야 합니다. 그리고 후반부의 Printed Electronics를 통해서는 반도체 제작 기술에 있어 학기 초에 강연 되었던 나노 임프린트 리소그래피외에도 인쇄 기술을 이용한 반도체 제작이 가능함을 알게 되는 기회가 되었습니다.
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지스트를 임프린트하기 위해서는 고압 (10-30 bar 정도)이 필요하기 때문에 기 제작된 하단의 나노 구조물을 파손시킬 소지가 있고, 불투명한 스탬프는 다층화 정렬작업에 불리하게 작용한다. 이에 반하여, UV-NIL은 1996년 Haisma 등[3]에 의하여 최
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독자들의 요구 대응 전문출판기획자에 의한
출판에 관한 연구
1. 전문출판기획자란?
2. 전문출판기획자에 의한 출판 현황
3. 전문출판기획자에 의한 출판의 파급 효과
4. 대형 출판사의 임프린트 제도 활용 현황
5. 결론
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6_Flexible Display (고려대학교 권재홍, 정진
욱, 이영훈, 이원희) 1. 서 론
2. 이 론
1) PDMS (Polydimethylsiloxane)
2) Nano Transfer Printing
3) Decal Tranfer Lithography (DTL)
4) ITO (Indium Tin Oxide)
3. 실험방법
4. 결과 및 고찰
5. 결 론
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리소그래피 시스템을 이용한 나노 패턴 제작
1. 홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography) 시스템 원리
2. 홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography) 시스템 구성
3. 감광제(Photoresist) 도포 조건의 도포 두께에 대한 영향 및 최적화
4. 노광시
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기술과 탄소튜브를 이용한 나노센서에 대해서 발표를 하였습니다. 과목을 수강하면서 웨이퍼의 공정과정 및 Lithography 기술에 대해서 공부를 하였습니다. 그 결과 저에게는 Photomask 및 웨이퍼에 대한 조금의 지식을 쌓게 되었습니다.
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나노 과학 및 기술수업에서 했던 반도체 나노 공정에 대한 발표로 흥미가 생겼습니다. 발표 준비를 하면서 공정에 더욱 관심을 두게 되었고 반도체 소자 및 공정에 대한 이해도를 높일 수 있었습니다. 이러한 저의 관심은 공정기술 직무에 대
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