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전문지식 36건

1. 실험 목적 MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 ‘Dry etching’을 실시한 후 Si기판 위에 금속을 증착시키는 공정인 ‘Metal deposition’을 실시하여 기판의 면저항을 측정한다. 증착시키는 1. 실험 목적 2. 실험 방법 3. 결과 및 고찰 <결론>
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  • 등록일 2015.02.23
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deposition Good economy and process control A great variety of chemical compositions High step coverage Selective deposition AdvantageS of CVD Classification of CVD Thermal(conventional) CVD - Operating Temp. : 800 1200 ℃ - Mass Products - High Purity Thin Film - influenced by various fac
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  • 등록일 2008.12.21
  • 파일종류 피피티(ppt)
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deposition) 제2절 TiO2 개질  1. 개요  2. TiO2 가시광 흡수와 광촉매 반응   2.1. 염료감응(dye sensitizaztion) TiO2 광촉매   2.2. 금속담지   2.3. 도핑    2.3.1. 전이금속 도핑    2.3.2. 비금속 도핑   2.4. 무기이온 표면 착물화  
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  • 등록일 2014.05.01
  • 파일종류 한글(hwp)
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Metallic Alloy using Electrical Resistivity, Seung Hoon Nahm, Kwang Min Yu, and Jae Cheon Ryu, Journal of the Korean Society for Nondestructive Testing, Vol. 21, No. 5, P.532-P.541 (2001) [4] ITO-free organic light-emitting diodes with as semitransparent anode fabricated using thermal deposition me
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3인 著 / 한국 경제 신문 출판부 진공물리 및 진공기술 / 안일신 著 / 한양대학교 출판부 http://metal.or.kr/new/college/lecture/heattreat/heat09-09.htm http://www.pvdworld.net/ http://kr.softwise.yahoo.com/bin/query http://www.yik.co.kr/pds/view.asp -서론 -본론 -결론 -참조
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