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목차
1.서론
2.반응유형, Precursors
3.관련 기초분야: 열역학, Kinetics, Dynamics
4.Modified CVD
2.반응유형, Precursors
3.관련 기초분야: 열역학, Kinetics, Dynamics
4.Modified CVD
본문내용
1. CVD (cheical vapor deposition):
gas 상태의 화학성분(chemical constituents)들이 높은 온도의 기판 위에서 반응하여, 기판 위에 (비휘발성) 고상을 생성하는 재료합성공정.
2. 응용 분야:
- thin film, coating 제조
- solid state electronic devices 제조
- ball bearing, cutting tool coating
- engine 내부 coating
- MOS 제조
gas 상태의 화학성분(chemical constituents)들이 높은 온도의 기판 위에서 반응하여, 기판 위에 (비휘발성) 고상을 생성하는 재료합성공정.
2. 응용 분야:
- thin film, coating 제조
- solid state electronic devices 제조
- ball bearing, cutting tool coating
- engine 내부 coating
- MOS 제조
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