|
1. CVD (cheical vapor deposition):
gas 상태의 화학성분(chemical constituents)들이 높은 온도의 기판 위에서 반응하여, 기판 위에 (비휘발성) 고상을 생성하는 재료합성공정.
2. 응용 분야:
- thin film, coating 제조
- solid state electronic devices 제조
- ball bea
|
|
|
1. 장점
2. 단점
Ⅶ. 화학도금
1. 장점
2. 단점
Ⅷ. 건식도금
1. CVD(화학적 기상도금)
1) CVD의 원리
2) CVD의 특징
3) CVD장치
2. PVD(물리적 기상도금)
1) 진공증착법
2) 음극스퍼터링(cathode sputtering)
3) 이온도금(ion plating)
참고문헌
|
|
|
장치의 최대 과제는 메인티넌스(Maintenance)이다. 파티클, 메탈 컨태미녀이션 등도 박막형성장치 특유의 문제이다. 단, CVD 장치와 스파터 장치는 원리가 다르기 때문에 공통적인 대책은 찾기 어렵다.
* PLD(Pulsed laser deposition)란?
펄스레이저 증착
|
|
|
장치의 최대 과제는 메인티넌스(Maintenance)이다. 파티클, 메탈 컨태미녀이션 등도 박막형성장치 특유의 문제이다. 단, CVD 장치와 스파터 장치는 원리가 다르기 때문에 공통적인 대책은 찾기 어렵다.
* PLD(Pulsed laser deposition)란?
펄스레이저 증착
|
|
|
CVD에 비해서 좋지 않다. 또한 장치가 복잡하고 가격이 비싸 대량 생산이 어려운 단점이 있다.
6. Photo CVD
Gas phase나 표면에 흡착된 물질을 분해하기 위한 에너지원으로 광원을 이용하는 CVD 법이다. 광원의 에너지를 반응 기체의 활성화를 이용
|
|
메뉴펼치기
