대원진공열처리기업개요

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	[논문] ReRAM & 비휘발성 메모리 ReRAM 2. 비휘발성 메모리 시장 전망 2-1. 대기업 참여 현황 II. 본 론 1. NiO 물질을 이용한 ReRAM 특성 구현 2. 실험 방법 1-1. R.F Magnetron Reactive Sputtering Deposition 1-2. 전기적 특성 평가 (I-V) 3. 실험 결과 및 분석 III. 결 론 IV. 참고문헌 ReRAM\|비휘발성 메모리\|memory\|PRAM\|PoRAM\|MRAM\|supper, ReRAM & 비휘발성 메모리,	페이지 13페이지 가격 2,000원 발행일 2009.06.15 파일종류 한글(hwp) 발행기관 저자
	[논문] [화학공학] 고분자 유기EL 발광재료 진공기술(박막제조기술) Pioneer Pioneer(양산 경험)+샤프, SEL(저온 poly-TFT) ELDIS 설립 소니 소니(저온 poly-TFT)+토요다(수요자) STLCD 설립 SNMD 삼성SDI(STN LCE)+NCE(기초기술) 고분자 세이코 제 1장 서 론 제 2장 기술동향분석 1. 기술의 개요 고분자\|유기EL\|고분자 유기EL\|PPV\|폴리플루오렌\|화학공학\|PPP 계열\|인광계열, [화학공학] 고분자 유기EL 발광재료,	페이지 43페이지 가격 3,000원 발행일 2008.12.04 파일종류 한글(hwp) 발행기관 저자

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