|
미세전자 공학 – STEPHEN A. CAMPBELL 원저
화학기상증착법(CVD)
13.1 실리콘의 증착을 위한 기본적인 CVD 시스템( A Simple CVD System for the deposition of Silicon)
13.2 화학적 평형과 질량 운동의 법칙(Chemical Equilibrium and the Law of Mass Action)
13.3 가스 흐름
|
- 페이지 8페이지
- 가격 4,200원
- 등록일 2012.10.18
- 파일종류 워드(doc)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
전자의 충돌에 의하여 투입된 가스가 플라즈마 상태로 활성화 된다. 이러한 플라즈마 상태에서 발생하는 가스의 이온 또는 라디칼 등이 피처리 재료 표면에 충돌하여 미세 유막 제거, 미세 조도 형성등, 표면의 물리 화학적인 변화를 유도함
|
- 페이지 25페이지
- 가격 9,500원
- 등록일 2006.03.25
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
미세구조의 근접장 특성평가, 연세대학교, 2002
박준도 - 근접장 주사 광학현미경의 제작, 호남대학교, 2007
정해진 외 6명 - 광학현미경, 전자현미경을 이용한 개개 대기입자의 흡습성과 화학 조성 분석, 한국대기환경학회, 2010 Ⅰ. 개요
Ⅱ
|
- 페이지 8페이지
- 가격 6,500원
- 등록일 2013.07.15
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
CVD(Chemical Vapor Deposition)
5.1. LPCVD
5.2. PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)
5.3. APCVD
6. 분자빔 결정법(MBE)
7. 박막 증착의 예
7.1. 실리콘 박막 트랜지스터(TFT)
8. PVD와 CVD의 차이 비교
9. 증착법의 실제 적용 분야
9.1. 증착법의 기
|
- 페이지 56페이지
- 가격 3,000원
- 등록일 2007.09.28
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
전자현미경을 활용하는 순수 구조연구는 감소하는 경향이 있다. 그러나, 최근에 들어서 in situ hybridization, RT-PCR, autoradiography, molecular probes, immunoelectron microscopy 등 분자생물학적 연구 기법을 전자현미경 수준에서 수행할 수 있는 연구 기법이 개
|
- 페이지 38페이지
- 가격 3,000원
- 등록일 2005.06.27
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|