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화학공정제어 ,유민수 외 3인 공역, 희중당, 1986 5)반응 공학\", 장현태 외 3인 공역, 동화기술, 1999 1. 실험제목 2. 실험일자 3. 실험목적 4. 실험이론 (1) 반응기의 종류: (2)반응 속도식의 정의: (3)Mole balance를 이용한 반응 속도식의 유
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화공 단위 조작 서명교외 2명 저 1997. (대웅출판) · 열전달 J.P.Holman 대우문화사 · 화공 유체 역학 de Nevers 희중당 · 단국대학교 화학공학과 홈페이지(http://user.dankook.ac.kr/~chemeng/) 1. PURPOSE 2. THEORY 3. Apparatus(기구) 4. Procedure(방법) 5. 실 험
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자 변이를 찾아내기 위한 이후의 기능적 분 자 생물학적 연구들에 대한 논쟁을 강화할 수 있을 것으로 추정된다. 4. 참 고 문 헌 1)기기분석, 함동곤 외 저, 창문각 2)화학공학 열역학, Smith.VNA 저, 김하용외 공역, MacGraw-Hill 3)열분석 워크샵 (주)
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기술 / p 130~134, p 503~504 / 이화영 외 3 / McGrew-Hill / p 454~507 분리공정원리 / 김선근, 김성형 외 2 / 교보문고 / p 236~240, p 403~407 1. 실험 제목 2. 실험 목적 3. 이 론 ◈ Fluidization ◈ 고체 입자층에 액체나 기체가 ◈ Ergun equation
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화학공학의 과제”, 금빛출판사, (1997). 2. “연료전지 심포지움 2002 논문집”, 한국전기화학회 연료전지분과, (2002) 3. 김진용, 이효송, 김정수, 이영우, “외부전압 및 너비 변화에 따른 마이크로 채널의 유량 변화”, 충남대학교 화학공학과, (2
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화학공학전공자가 반도체 산업에서 필요한 이유 반도체를 전자공학자들이 거의 다 만든다고 생각하지만 반도체 제조에는 전자, 기계, 화공, 화학, 재료 공학 등 많은 전공들을 필요로 한다. 특히 화학공학전공이 필요한 이유는 무슨 재료를
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화학반응공학/ Octave Levenspiel, 2000/ (주)사이텍 미디어/ p.350~378 2. 물리화학/ 탐구당/ 안우선저/ p.500~506 3. 반응 공학/ 장현태외 3인 공역/ 동화기술/ p.47~63 4. 반응공학/ 대영사/ 설수덕/ p.217~228 ABSTRACT ------------------------------------------------ Ⅰ T
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화학반응공학“ 사이텍미디어 3rd (2000) 407~410 P. - 박기채외 기기분석의 원리 (1998) 자유아카데미, p446~456 - Gilbert W. Castellan, 물리화학 (1986) 사이텍 미디어 p388~398 - http://www.yahoo.kr.cm 1.서 론 2.이 론 ?????3 2-1 촉매의 정의 ?????3 2-2
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자 블렌드의 형태학적 상구조 예측”, 공주대학교 신소재공학부, elastomer Vol.39, No.3, 2004, pp.193~208 14. 김보현, “안정적인 사출성형조건의 탐색을 위한 지원시스템”, 한국생산기술연구원 지능형 생산시스템 팀, IE Interfaces Vol.18,No.1 2005, pp.73~81 1
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기술하고 그 내용을 살펴보라. ☞ 3성분계 액액평형에 대하여 알아보자 ) 『화학공학(Chemical engineering』, 임굉 저, 내하, 2005년, Page273-화학평형 이와 같은 계통에서는 원용매 A, 추질 B, 추제 S의 3자가 추출액 중에도 추잔액 중에도 존재하므로
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