PACVD

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PACVD(Plasma-assisted chemical vapor deposition)

PACVD의 반대과정인 PA-etching 이 집적회로의 제조에 있어서 wet etching을 대체하고 있지만 최근까지도 공업적인 low-pressure glow discharge의 사용은 plasma 산화, 질화, 침탄 등으로 제한되고 있다. 4)․PACVD의 장점 : Salt bath 나 gas nitriding을 이용한 방

PACVD thermodynamic effect, Kinetic effect plasma, PACVD(Plasma-assisted chemical vapor deposition),

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등록일 2007.10.18
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