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Serway, Moses, Moyer (김충선, 이삼현 공역)
(2) GRIFFITHS 양자역학 (청범출판)
(3) 진공, 표면 분석기술의 입문 (이명복, 이정희)
(4) 표면분석기술 3학년 수업 ppt자료 UPS(Ultraviolet Photoelectron spectroscopy)
1. 실험 목적
2. 실험 이론
3. 참고
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처리 및 표면현상 이해 등)에 많이 이용되고 있으며,금속, 세라믹, 반도체 재료 등 모든 재료 분야에서의 ESCA 이용이 크게 증가할 것입니다. ➀ 주사전자현미경(SEM)
➁ 자외선-가시광선 분광광도계(Ultraviolet-Visible spectrophotometer)
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spectroscopy)
(1) AAS원리
(2) AAS의 구성
(3) 감도 및 검출 한계
1. 감도
2. 검출한계
(4) 적용범위
(5) 분석방법
2. XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy)
(1) 기본원리
(2) ESCA 장치의 주요 구조
(3) 광전자 스펙트럼 (Photoelectron spectrum)
(4) 화학적 이동 (Che
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spectroscopy)
(1) AAS원리
(2) AAS의 구성
(3) 감도 및 검출 한계
(4) 적용범위
(5) 분석방법
10. XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy)
(1) 기본원리
(2) ESCA 장치의 주요 구조
(3) 광전자 스펙트럼 (Photoelectron spectrum)
(4) 화학적 이동 (Chemical shift)
(5) 정량
조성측정방법 TGA, XRD DTA, 재료의 조성 측정방법(XRD, TGA, DTA, FTIR, AES, EDS, XRF, ICP-MS, AAS, XPS),
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1) 기기분석방법, Hovart H. Willard 외 3명, 도서출판 대웅, 1991.8.31, p128-210
2) Visible and Ultraviolet spectroscopy, RONALD C DENNEY. ROY SINCLAIR, ACOL thames polytechnic London, 1993, p31-49, 1. 목적
2. 이론
3. 실험 장치 및 방법
4. 결과
5. 토의
6. 결론
7. 참고문헌
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