Photolithography

소개글

Photolithography 에 대한 보고서 자료입니다.

본문내용

인하는 기술을 의미한다. 이 방법은 물질의 합성 원리를 이용하는 것으로 일단 공정이 확립되면 대량 생산이 용이하다는 장점이 있지만 기존 기술에 의해 제조된 인공물과는 디자인과 작동 원리에서 큰 차이를 보이고, 그 원리의 이해도 또한 매우 낮아 기초적인 연구에 머무르고 있다. 이 기술은 전자 산업에 적용하는 데 있어 초기에는 전자 장치용 부품 제작에만 국한될 것으로 보이며 따라서 제작된 부품을 회로상에 위치시키는 것이 가장 중요한 연구 이슈가 될 것으로 보인다. 현재 주사 탐침 현미경을 사용하여 구현이 가능하지만 대량생산에는 적합하지 않아 지속적인 연구 개발이 필요하다. 이 기술이 실제로 리소그래피에 적용되는 데에는 상당한 기간이 필요한 것으로 보이며, 현재의 전망으로는 메모리 부문에서 최호로 상용화될 것으로 예상된다.
- Ion Beam Lithography
H나 He 이온을 이용하여 Patterning을 하는 장비로 기본적으로 Stepper의 구조와 가장 유사한 장비이다. 이론적으로는 파장이 10-6nm로 가장 좋은 해상력을 구현할 수 있고 Mask 역시 비슷한 구조의 Stencil Mask에 비해 제작이 손쉬운 편이다.
(10) 참고문헌 & internet site
수업자료
하이닉스 반도체
네이버 백과사전
http://www.terms.co.kr
http://blog.naver.com/yusinwin?Redirect=Log&logNo=80029699867
http://www.chem.hanyang.ac.kr:8001/hanyang/professor6/upload/Photolithography.pdf

키워드

photolithography,   반도체,   재료공학