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본문내용
기판 Mask를 말한다.● Stepper사진 노광 장치의 일종으로 Reticle의 Pattern을 광학 Lense를 사용하여 Wafer위에 축소 노광하여 전사하는 방식.● UV Light자외선(Ultra Violet Light)으로 적외선에 비해 파장이 짧고 Energy Density가 큰 특징이 있어 Photolithography 공정에 이용된다.
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- 페이지수2페이지
- 등록일2012.03.13
- 저작시기2008.09
- 파일형식한글(hwp)
- 자료번호#779525
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