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ata/thin-film-intro.pdf
- http://blog.naver.com/four24rang?Redirect=Log&logNo=150007354867
- http://www.kps.or.kr/storage/webzine_uploadfiles/416_article.pdf 1.실험목적
2.실험이론
2-1) 진공증착
2-2) PVD 와 CVD의 차이점
3.실험장치 및 시약조사
4. 실험방법
5.참고문헌
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thinfilm.com/thinfilm/thinfilm.htm
- 반도체 관련 정보 토탈 서비스 http://www.semipark.co.kr/
- 아주대학교 대학원 분자과학 기술학과 http://mst.ajou.ac.kr/
- http://tooltech.co.kr/form.html
-충남대학교 지능생산 및 자동화 실험실 http://imal.cnu.ac.kr
-서울대학교 컴퓨터
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실험 방법····························34
4.1 기판 세척 공정···························34
4.2 게이트 전극의 형성······················34
4.3 게이트 절연층의 형성·····················35
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기초
② 실험 기술
(3) 이온을 이용하는 방법과 음극 스퍼터링
① 2극 스퍼터링의 원리
② 음극 스퍼터링의 몇 가지 특수한 장치
③ 저압 음극 스퍼터링
④ 이온 프레이팅과 이온빔을 이용한 방법
5) 막의 두께 측정방법
6) 향후의 전망
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실험에서는 이온화 게이지가 고장이 난 관계로 사용하지는 않고 대신 시간으로만 측정한다.)
5. 증착과정
증착전류와 볼트를 켜고 AL이 다 녹을 때까지 증착전류를 100 ~ 110A 정도 천천히 올려준다. AL이 다 녹으면 5분정도 증착시킨다. 증착이 완
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