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Transistor
(6) Lithography Process
(7) Resolution of lithography
(8) Lithography Resolution & Depth of Focus
(9) Lithography Tool vs Design Rule
(10) Cross-sectional View (130㎚ L/S)
(11) Proximity & Contact Lithography
(12) Projection Lithography
(13) Method of Projection Lithography
(14) Lith
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되고 기공이 없어졌기 때문에 소결 밀도는 증가하게 되는 것이다.
F. 참고 문헌
디스플레이 및 세라믹재료실험(2009, 디스플레이 신소재공학과, 이경호 교수님)
소결의 이론 및 실제(다성출판사, 박상엽·백용균)
네이버 백과사전 없음
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Film들이 어떻게 작용하지는 알아보며 또 Sheet resistance를 구해 Touch기술 이해 및 ITO분석을 한다. 마지막으로 Alpha-Step으로 TFT-array의 단차 측정을 하여 측정한 결과를 2주차 현미경결과와 비교한다.
Ⅱ. 실험 재료 및 기구 : 3.5”(AUO, LG전자), 4.8
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실험방법
재료열처리(온도변화) ⇒ 경도측정 ⇒ XRD 관찰 ⇒ 재료열처리(시간변화) ⇒ 폴리싱(마운팅, 연마, 폴리싱, 에칭) ⇒ 광학현미경관찰 ⇒ 재료열처리(350℃) 후 경도 측정XRD 관찰
Ⅴ. 참고문헌 및 자료
금속재료 / 기전연구사 / 2004년 1
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기본화 또는 최대항(maxterm)
2.4. Sum of Product와 Product of Sum
2.5. 논리식의 간단화
2.6. 카르노도(Karnaugh Map)
2.7. 카르노도에 의한 논리회로의 간소화(간략화)
3. 실험 부품
3.1. 측정기 및 도구
3.2. 실험재료
4. 예비보고서 문제
5. 참고 문헌
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Film Resistor
1%, 1/4Watt
주의)
저항범위: 1ohm~1Mohm
저항값 기입란에는 한번에 한가지 저항값만 기입하셔야 한다.
(ex; 10Kohm 혹은 10K와 같이 입력) 1. 실험배경
2. 실험목표
3. 이론
4. 실험재료
5. 실험과정
6. 고찰사항
• Cds광도전 셀
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실험은 photolithography과정을 통해 color filter pattern을 형성하여 제조공정과정을 이해한다. 어떠한 배치방법이나 투과도를 통해서 정확하게 분석을 해본다..
Ⅱ. 실험 재료 및 기구 :Glass, spin-coater, Photo resist, Vacuum chamber, Cr (크롬:BM), RGB 색안료
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디스플레이
1. TFTLCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display)
2. PDP(Plasma Display Panel)
3. EL(Electroluminescent Display : ELD)
4. FED(Field Emission Display)
Ⅳ. 차세대 연료전지
1. 고분자 연료전지의 특징
2. 연료전지 자동차
Ⅴ. 차세대 전투기
1. 유로파이터(E
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코팅층의 마찰마모특성에 관한 연구 - 탁성훈
Tribology between diamond-like carbon films and counterface in various environments - 박세준 1. 주제
2. 연구 목적
3. 연구실행 방법
4. 연구 계획
5. 연구관련계획
-도금(경질크롬도금)
-마찰마모실험
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디스플레이 제작 및 특성. 2002.
⑦ http://www.koshanet.com
⑧ http://www.chem-net.co.kr 1. 실험목적
2. 개요
1) OLED 원리
2) 고분자계와 저분자계 OLED 소자비교
3) OLED 구조
4) HOMO-LUMO
3. 실험 재료 및 과정
1) PLED(Polymer LED, 고분자 LED) 제작
4. 실
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