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. - 1. 실험 목표
2. 실험방법 및 유의 사항
3. 실험 결과
4. 광학유리의 래핑 전․후 상태 비교
5. Parameter definitions
6. 현재 진행되고 있는 나노 가공기술 또는 초정밀 표면가공
7. 고찰 및 개선할 점
※참고문헌
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다이아몬드 슬러리를 이용한 래핑 조건 (10분 가공)
■ 실험 결과
# 표면의 Profile 변화
■ 다이아몬드 슬러리를 이용한 래핑 조건 (20분 가공)
■ 실험 결과
# 표면의 Profile 변화
■ 광학유리를 래핑 전,후 표면 상태에 대해 설명하시오
■ Par
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전교수)라고 한다. 가공시간은 5분 (직경 2.5인치의 자기디스크 1매)이다. 균열도 전혀 존재하지 않는다고 한다. 또한 숫돌을 변형한다면 절삭, 연삭, 연마등 다목적 가공도 할수 있다.
초정밀 표면 가공을 하는 경우, 유리의 취약성과 균열이
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전속도 (40rpm), 분사시간(2초), 휴지시간(8초)
가공시간을 10분으로 하여 위와 같이 가공한다.
(3) 세라믹의 래핑 전.후의 표면상태에 대한 분석.
처음 실험한 가공시간 5분인 실험은 실험전의 Ra=3.64um 이고Rmax=26.3um 이였다. 가공후의 Ra=0.393 이고
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전하는 원통형 상자에 공작물의 입자, 공작액, 컴파운드 등을 함께 넣어 공작물 과 입자를 충돌 시켜 공작물 요철을 제거하여 매끈한 가공면을 얻는 방법이다.
가.가공-
ㄱ-공작물과 미디어의 비는 1:2~6 정도로 하여 배럴 내부 용적의 1/2정도
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