박막증착법

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논문 5건

	[논문] 저온다결정 Si(LTPS) Technology와 전망 법 ‥‥‥‥‥·‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥4 (1) 초저압 화학기상 증착법 (2) 열처리에 의한 재결정법 (3) 직접 증착법 (4) 엑시머 레이저 열처리법 󰊴 ELA 방법에 의한 다결정 실리콘‥‥‥‥‥‥ 저온다결정 Si(LTPS)\|LTPS\|TFT-LCD\|저온 폴리 실리콘\|LT Poly-Si\|Low Temperature Poly Silicon\|ELA, ELC\|Poly-Si TFT-LCD의 응용, 저온다결정 Si(LTPS)\|LTPS\|TFT-LCD\|저온 폴리 실리콘\|LT Poly-Si\|Low Temperature Poly Silicon\|ELA ELC\|Poly-Si TFT-LCD의 응용, 저온다결정 Si(LTPS) Technology와 전망,	페이지 30페이지 가격 3,000원 발행일 2010.01.16 파일종류 한글(hwp) 발행기관 저자
	[논문] OTS 처리한 절연막의 누설전류 및 펜타센 증착 표면에 관한 연구 제 3 장. 실험 방법 30 제 1 절 기판 및 시약 준비 30 제 2 절 OTS 증착 31 제 3 절 MIS 커패시터의 제작 34 제 4 장. 실험 결과 38 제 1 절 누설전류 특성 38 제 2 절 펜타센 증착 표면 43 제 5 장. 결 론 51 참고문헌 52 Abstract 55 OTFT\|OTS\|Pentacene\|절연막\|누설전류\|유기물\|박막 증착\|반도체, OTS 처리한 절연막의 누설전류 및 펜타센 증착 표면에 관한 연구,	페이지 56페이지 가격 3,000원 발행일 2008.03.12 파일종류 한글(hwp) 발행기관 저자
	[논문] ReRAM & 비휘발성 메모리 ReRAM 2. 비휘발성 메모리 시장 전망 2-1. 대기업 참여 현황 II. 본 론 1. NiO 물질을 이용한 ReRAM 특성 구현 2. 실험 방법 1-1. R.F Magnetron Reactive Sputtering Deposition 1-2. 전기적 특성 평가 (I-V) 3. 실험 결과 및 분석 III. 결 론 IV. 참고문헌 ReRAM\|비휘발성 메모리\|memory\|PRAM\|PoRAM\|MRAM\|supper, ReRAM & 비휘발성 메모리,	페이지 13페이지 가격 2,000원 발행일 2009.06.15 파일종류 한글(hwp) 발행기관 저자
	[논문] BLU(Back Light Unit)의 전반적인 이해와 기술전망 법, 홀로그램방법을 이용하는 등 기학광학을 이용하는 기술이 증가하고 있다. 가공방법으로는 Photolithography가 일반적이나 MEMS기술, Stamp기술, 금형 직가공 방법 등 다양한 가공 방법을 적용하고 있다. 이 중 일본 Omron사는 LED 한 개를 사용하여 LCD\|TFT-LCD\|BLU\|Back Light Unit\|냉음극 형광램프(CCFL)\|발광 다이오드(LED)\|평판형 형광램프(FFL)\|탄소나노튜브(CNT), BLU(Back Light Unit)의 전반적인 이해와 기술전망,	페이지 31페이지 가격 3,000원 발행일 2010.01.16 파일종류 한글(hwp) 발행기관 저자
	[논문] Back light 광원에 관한 고찰 법, 홀로그램방법을 이용하는 등 기학광학을 이용하는 기술이 증가하고 있다. 가공방법으로는 Photolithography가 일반적이나 MEMS기술, Stamp기술, 금형 직가공 방법 등 다양한 가공 방법을 적용하고 있다. 이 중 일본 Omron사는 LED 한 개를 사용하여 디스플레이\|TFT-LCD\|백라이트\|탄소나노튜브(CNT)\|졸업논문\|back light, Back light 광원에 관한 고찰,	페이지 35페이지 가격 4,000원 발행일 2010.03.05 파일종류 한글(hwp) 발행기관 저자

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