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실험제목
2. 실험목적
3. 실험내용
4. 실험절차
5. 실험이론
(1) 플라즈마 (Plasma) 란?
(2) Lithography 란?
(3) 반도체 제조 공정과 정의
(4) 식각(etching)의 종류와 정의
(5) M R A M (Magnetic Random Access Memory)
(6) 화학공학전공자가 반도체 산업에
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정공의 이행
3. 광촉매의 실용화(고정화)
(1) 활성표면의 확보
(2) 바인더의 내구성
(3) 기타조건
(4) 티탄화합물 용액을 이용하는 방법
4. 전처리-양극산화에 의한 TiO2 제조 실험 사례
(1) 실험 방법
(2) 실험 결과
(3) 분석 및 고찰
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박막제조법)
⑥경북대학교 무기재료공학과 박막공학연구실 (겔화 과정)
(cera.knu.ac.kr/labs/cml/data/images/sol_gel.ppt ) 1.실험목적
2.실험 이론
1)졸-겔법의 분류
2)졸의 제조
3)졸의 건조
4)Spin Coting법
3. 실험장치 및 방법
4.실험결과
1) 졸
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재료, 반도체 소자 제조, 환경분야 등에서 plasma의 이용이 점점 더 늘어날 전망으로 있으며, 이에 따라 다양한 plasma의 생성 및 제어, 측정 기술, plasma의 물성을 측정하는 plasma 진단법의 개발이 이루어질 것으로 전망된다. Ⅰ. Plasma
1. Plasma
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연구회)
3. http://www.solarpv.kier.re.kr (태양전지연구센터)
4. http://www.samsungsdi.co.kr (삼성SDI)
5. http://www.sharp-korea.co.kr/ (Sharp) Ⅰ. 태양전지의 원리
Ⅱ. 태양전지의 종류
Ⅲ. 각종 태양전지 기술 및 제품
Ⅳ. 토의
Ⅴ. 참고문헌
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편, 무기공업화학,(청문각), p215~225
http://www.semipark.co.kr/images/
http://home.megapass.co.kr/~snareeyes/frame_1.htm
http://www.kdns.co.kr/
http://www.lgphilips-lcd.com:8888/Korean/tech/d2_1.html 실험제목
실험목적
실험내용
실험절차
실험이론
참고자료
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박막을 얻기는 힘들 것이다.
5. 참조
1. http://en.wikipedia.org/wiki/Sputtering
2. http://www.iktm.com/
3. http://www.pvd-coatings.co.uk
4. http://www.msi-pse.com/magnetron_sputtering.htm
5. 유도결합 플라즈마 화학 기상 증착법을 이용한 TiB₂박막의 저온 증착 및 접착력 향상
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실험 결과 및 고찰···················37
5.1 Bias Aging에 따른 MIM 특성 분석··········37
5.2 Bias Aging에 따른 유기 박막 트랜지스터
소자 특성 분석···························38
제6장 결론············
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표면이 거울면이 되도록 한다.
7) 부식액을 이용하여 부식한다.
8) 일정시간의 부식 시간이 지나면 알콜로 세척한 뒤, 건조 시킨다.
9) 현미경으로 시편의 형상을 관찰한다.
4. 실험장치 및 방법
금속연마기를 이용하여 금속을 성형한다.
회전
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박막의 증착기구와 표면형상에 미치는 증착조건의 영향, 황철성, 27권4호, p539, 1989
[7] http://www.enbkorea.com
[8] 가시광에 반응하는 TiO2 광촉매의 제조 및 특성평가, 최재영, 석사학위논문, 금오공과대학교 대학원, p.5 ∼ 17, 2007
[9] http://www.nano-pac.com/
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