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실험실 수준에서는 21.4% 내외의 에너지 변환효율을 달성하여 초고효율 태양전지 제조 기술을 확보하였다. Sanyo HIT 태양전지는 0.2mm 두께, n-형 단결정 실리콘 기판에 진성의 수소화 비정질 실리콘 층과 투명전도막을 이용한다. 두 번째 상용으
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실험목적
2.실험 이론
1)졸-겔법의 분류
2)졸의 제조
3)졸의 건조
4)Spin Coting법
3. 실험장치 및 방법
4.실험결과
1) 졸-겔법을 설명하고 반응과정에 대하여 서술하시오.
2) 액상법을 이용한 코팅박막제조기술에 대해 조사한다.
3) Spin co
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산화층을 형성시켜 제품의 내식성과 외양을 좋게 하는 효과를 보기 위한 것이다.
4. 참고문헌
표면공학 -이홍로- 형설출판사
금속표면처리공학개론 -권호영, 강길구, 양학회, 송광호- 도서출판골드
도금표면처리 -염희택외 1명- 문운당 1.
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실험을 하여 각각의 특성과 현재와 미래에 대해 알아봤다.
니켈 도금은 앞으로 핵심 기술이 될 나노기술(NT)에 있어서 많은 영향력을 미칠 것으로 기대 된다. 최근 반도체 산업과 초소형 소자의 산업이 급속도로 발전함에 따라 이에 대한 관심
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실험
2. 진공도의 단위
3. 절대 진공도와 게이지 상의 진공도
4. 진공펌프의 용량 단위
5. 진공도에 따른 진공 영역의 구분
6. 진공펌프의 종류
7. 진공 펌프의 원리
1) 로타리 베인 펌프
2) 로타리 피스톤 펌프
3)
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반도체 산화물 소재-------------------------------8
3. Experiment------------------------------------------------------10
4. Results & Discussion----------------------------------------------11
5. Conclusion-------------------------------------------------------13
6. References-------------------
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반도체의 표면계측 및 결함 분석, 콤팩트디스크, 자기 디스크나 광 자기 디스크 등에 쓰인 비트의 모양새 조사 등에 쓰이고 있으며 최근 큰 성장을 보이고 있는 평판디스플레이(FED)의 제조공정 분석장비로도 활용되고 있다.
원자현미경은 진
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반도체 공정에서 산화실험이 필요한 이유
2. 반도체 공정에서 Si 기반 어느부분에서 산화를 쓰는가??
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공정에서는 매우 중요한 단위공정이다.
그 이유는 화학증착이 높은 반응온도와 복잡한 반응경로 그리고 대부분의 사용기체가 매우 위험한 물질이라는 단점에도 불구하고 고유한 장점들을 가지고 있기 때문이다. 화학증착법의 장점으로
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너
지원으로 열 에너지가 많이 사용되는데 이런 경우를 열(thermal) CVD라고 한다. 또한 열
에너지 이외에 플라즈마나 빛 에너지도 사용되며, 이런 경우는 플라즈마(plasma) CVD 또
는 광(photo) CVD라고 한다.
1. 화학기상증착(CVD) 공정
■ Metallization
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