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전문지식 372건

반도체공학 - 박광순, 여진경 역. 학문사. 1997 [5] http://www.ece.utep.edu/research/webedl/cdte/Fabrication/index.htm [6] http://lsm.rutgers.edu/facilities_ALD.shtml [7] chap2. 전계효과 트랜지스터(FET) - 디스플레이공학 이준신교수님 강의자료 1. 실험목적 (Purpose) 2.
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  • 등록일 2014.01.07
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. Si의 산화를 고온에서 하는 이유는 상온에서는 Si 및 산소분자 모두 자연 산화층을 통하여 확산할 수 있을 만큼 활동적이지 못하기 때문이다. 따라서 1. 실험 목적 2. 이론적 배경 3. 실험 과정 4. 실험 결과 5. 고찰 및 창의 설계
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  • 등록일 2010.01.23
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실험들을 클린룸에서 진행하는지도 느끼게 되었습니다. 실험을 진행하는 동안 거의 모든 웨이퍼에서 오염물이 발견 되었기 때문입니다. 졸업을 하고 취업을 하더라도 반도체 공정을 하면 정말 정교하고 정밀하게 작업에 임해야겠다고 생각
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  • 등록일 2015.05.19
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두께가 두꺼운 것이 요구되면 상당히 긴 시간이 소요된다. ※ Reference - Introduction to solid state physics,7th edition (Charles Kittle) - http://smdl.snu.ac.kr/Lecture/semi_process/data/ch101.ppt - http://home.mokwon.ac.kr/ 
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  • 등록일 2004.12.23
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두께에 해당하는 셈이다. 이 장치의 감도는 10-9 g/㎠까지 되고, 이는 철의 경우 한 개층의 1/100에 해당하는 양이다. 온도를 ± 0.01°C 내에서 안정시키면 10-12 g/㎠의 감도를 얻을 수 있다. 9. 결론 이번 실험은 반도체 제조공정에 대한 전반적인 이
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  • 등록일 2007.08.28
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논문 5건

LED의 전반적인 설명과 LED의 제조공정방법에 대한 내용이 수록되어 있습니다. 1. LED의 실험배경 및 목적 2. LED란 무엇인가? 3. LED의 특징 및 응용분야 4. LED PKG제조공정 및 성능 비교 실험 5. 실험 일정 6. 참고자료
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  • 발행일 2015.09.08
  • 파일종류 피피티(ppt)
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공정 조건을 최적화 하는 실험을 진행하였다. 노광시간과 감광제 도포 조건에 대한 패턴 형상의 특성과 경향성을 고찰하였으며, 노광시간 55초와 감광제 도포 두께 150nm라는 공정 조건을 산출하였다. 이러한 과정을 거친 패턴을 이용해 반응성
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  • 발행일 2010.03.05
  • 파일종류 한글(hwp)
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  • 저자
6_Flexible Display (고려대학교 권재홍, 정진 욱, 이영훈, 이원희) 1. 서 론 2. 이 론 1) PDMS (Polydimethylsiloxane) 2) Nano Transfer Printing 3) Decal Tranfer Lithography (DTL) 4) ITO (Indium Tin Oxide) 3. 실험방법 4. 결과 및 고찰 5. 결 론
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  • 발행일 2008.06.23
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  • 저자
실험대상선정과 공정조건 제 4장. 길이 변화 따른 온도변화 1절. 길이 변화 따른 온도변화 2절. 실험결과 제 5장. 동일 부피 따른 온도 변화 1절. 동일 부피 따른 온도 변화 2절. 실험결과 제 6장.완전 제품 설계시 온
  • 페이지 42페이지
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  • 발행일 2011.12.21
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  • 저자
ReRAM 2. 비휘발성 메모리 시장 전망 2-1. 대기업 참여 현황 II. 본 론 1. NiO 물질을 이용한 ReRAM 특성 구현 2. 실험 방법 1-1. R.F Magnetron Reactive Sputtering Deposition 1-2. 전기적 특성 평가 (I-V) 3. 실험 결과 및 분석 III. 결 론 IV. 참고문헌
  • 페이지 13페이지
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  • 발행일 2009.06.15
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취업자료 107건

견디며 새로운 길을 개척하는 끈기와 기존의 틀을 깨는 창의성이 필요합니다. 저는 이 두 가지를 균형 있게 발전시키며 연구개발에 임하고 싶습니다. 2025 삼성전자 DS부문 [메모리사업부] 반도체공정기술 자기소개서 자소서 및 면접질문
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  • 등록일 2025.08.27
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공정 안정성을 극대화하는 최적의 변수를 도출하였습니다. 그 결과, 기존 공정보다 20% 이상의 패턴 정렬 오차를 감소시키는 성과를 얻을 수 있었습니다. 이러한 경험을 바탕으로, 저는 삼성전자 CTO 반도체연구소에서 차세대 반도체 공정 기
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세우고, 일정 기준 이상이면 실행하는 훈련을 하고 있습니다. 실험 계획 수립 시 우선순위와 기대효과를 명확히 정하는 방식으로 개선해왔습니다. 어플라이드 머티어리얼즈 코리아 Applied Internship - 반도체 엔지니어 자기소개서 지원서
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반도체 공정과 패키징 기술을 연구한 지원자입니다. TSV와 박막 증착 실험을 통해 공정 최적화와 데이터 분석 역량을 키웠고, 협업 프로젝트에서는 다양한 의견을 조율하며 문제를 해결했습니다. 실패를 두려워하지 않고 원인을 분석해 개선
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  • 등록일 2025.09.01
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 직종구분 일반사무직
공정 변수를 도출하였습니다. 이를 통해 기존 대비 이동도를 30% 향상시키는 결과를 도출하였으며, 연구 논문을 학술대회에서 발표하는 성과를 거두었습니다. 이러한 경험을 바탕으로, 저는 삼성전자의 반도체 공정설계 직무에서 차세대 반
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  • 등록일 2025.03.14
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  • 직종구분 기타
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