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클린룸 청정기준: CLASS란 무엇인가?
4) 클린룸의 오염원 종류 및 원인
5) 클린룸의 오염원 종류 및 원인: 사람
6) 클린룸의 오염원 종류 및 원인: 클린룸을 구축하는 도중 발생하는 각종 먼지들
7) 클린룸의 오염원 종류 및 원인: 제조공정
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공정까지, 반도체의 거의 모든 것, 이종태. 시사IN, 2023.05.26.
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-PCIe 4.0 SSD의 끝판왕, 삼성전자 990 PRO M.2 NVMe, 이
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공정은 우수한 품질의 웨이퍼 양산을 위해, 웨이퍼 표면을 평평하게 만드는 과정이다.
4. 레포트를 쓰고 나서...
- SK하이닉스의 반도체 제조 공정에 대해 알아보기 위해 SK하이닉스가 어떤 회사인지 알아보았고, SK하이닉스의 반도체 제조 공정
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공정기술수준이 이에 따라오지 못한다. 파운드리 시장규모는 2021년 150조 수준이나 2025년에는 200조, 2030년에는 270조 수준으로 규모가 천문학적으로 커질 것으로 예상되는 만큼 삼성전자를 비롯해 DB하이텍, SK하이닉스와 같은 한국기업들의 선
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공정 전환을 하지 못했다. 우스갯소리로 14나노미터 장인이 되었다는 말을 들을 정도로 긴 시간이다. 가장 큰 원인은 인텔이 ASML의 EUV 노광 장비에 적응하지 못한 것이다. 낸드플래시 원조 업체 도시바가 삼성전자에 밀린 것도 램리서치의 식
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공정 기술을 도입한 최첨단 공장에서 생산되고 있다. 이전에는 대부분의 고급 스마트폰 제조사와 마찬가지로 S6 이전까지는 퀄컴에 의존해왔다. 그래서 퀄컴의 스냅드래곤 마이크로프로세서는 업계 최고 기준으로 평가받으며 고급 스마트폰
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SK하이닉스
→ 최근 SK하이닉스의 대규모 EUV장비 투자 공시 / 관련 계측장비 수요 증가 예상
→ 동사 수혜 전망
<자회사 (주)이솔의 유상증자(22.03.24)>
(주)이솔의 자산 : 95억 원
유상증자 자금 조달 금액 : 175억 원
→ EUV 공정장비 납품을 위
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하이닉스
하이닉스반도체(현 SK하이닉스)는 꽈거 1996년부터 1999년까지 2조원에 달하는 분식회계를 했다. 그 배경은 다음과 같다. 1997년부터 진행된 반도체 경기악화 때문에 실적을 좋게 꾸미기 위해 분식회계가 불가피했다는 것이 표면적인 분
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SK하이닉스와의 산학협력 프로젝트 참여를 통해, 이론적 연구와 실제 응용 간의 간극을 줄이는 실용적인 기술 역량을 확보할 수 있으리라 기대합니다. 또한, 대학원 과정 중에는 국제 반도체 학회인 IEDM, ISSCC, VLSI Symposium 등에 논문을 투고하는
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공정에 꼭 필요한 EUV 노광 장비를 제조하는 세계 유일의 업체다. 현재 여러 IT 기업들이 인공지능, 자율주행차, 빅데이터, 데이터센터 서비스 등의 영역에서 경쟁하며 자체칩을 개발하고 있다. 게다가 EUV 노광 장비의 활용이 시스템 반도체를
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