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가 두꺼운 것이 요구되면 상당히 긴 시간이 소요된다.
※ Reference
- Introduction to solid state physics,7th edition (Charles Kittle)
- http://smdl.snu.ac.kr/Lecture/semi_process/data/ch101.ppt
- http://home.mokwon.ac.kr/
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측정기
수동표면저항측정기
오차
면 저항
전류
전압
면 저항
면 저항
ITO
2.147 k/
3.48 mA
2.53 V
3.293 k/
1.146 k/
Cu
20 m/
3.43 mA
0.014 mV
18 m/
2 m/
Si wafer
45.62 /
3.42 mA
30.47 mV
40.35 /
5.27 /
5. 결론
박막을 특정한 용도로 응용하기 위해서는 박막의 두께, 조성,
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박막형성장치 특유의 문제이다. 단, CVD 장치와 스파터 장치는 원리가 다르기 때문에 공통적인 대책은 찾기 어렵다.
* PLD(Pulsed laser deposition)란?
펄스레이저 증착법 (Pulsed laser deposition (PLD) 또는 Laser ablation) 방법이 산화물 박막을 연구 하는 연
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기초
② 실험 기술
(3) 이온을 이용하는 방법과 음극 스퍼터링
① 2극 스퍼터링의 원리
② 음극 스퍼터링의 몇 가지 특수한 장치
③ 저압 음극 스퍼터링
④ 이온 프레이팅과 이온빔을 이용한 방법
5) 막의 두께 측정방법
6) 향후의 전망
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박막, 그리고 좋은 Uniformity를 얻을 수 있는 증착기술이 필수적임을 깨달았다.
7. 참고문헌(reference)
[1] Solid State Electronic Devices(6th edition) - Ben Streetman, Sanjay Banerjee
[2] Modeling and Simulation of Negative Bias Temperature Instability - R.entner
[3] Chap. 6. Field Effect T
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