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Ion Plating 의 개요
※ ION-PLATING의 특징
※ Ion Plating 의 장점
◎ Ion Plating 의 원리
※ DC-diode 아르곤 방전
※ 아르곤 방전에서 음극에서의 충돌
※ 실제 ion plating 방전
◎ ION-PLATING 장비 및 공정
※ 장비
※ 공정
◎ 개발 방향
※ 상업적
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Ion Beam System)
1. 집속 이온빔 장치의 구조
2. 각 부분별 작동원리
3. 집속 이온빔 장치의 응용
SEM(Scanning Electron Microscope)
1. 주사전자현미경(SEM)이란?
2. SEM의 작동 원리
3. SEM의 구성
MgO 보호막
1. MgO 보호막의 조건 및 역할
2. MgO
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ion beam 증착
Me
\"
금속
0.17-167
화학증착법
(CVD)
회학증착
Me, MexBy, MexCy, MexNy,MexOy,MexSy,
기타 합금
1000-2273
금소염화물
금속수소화물
유기금속화합물
0.33-83.3
plazma CVD
“
573-1473
“
“
물리증착확산법의 종류
종 류
진공증착
이온 플레이팅
스퍼터링
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이온플레이팅(ion plating)
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색을띠며 뛰어난 내마모와 경도를 나타내어 주로 금형,공구류에 적용 되어지고 있다 1.개요
2.DC-diode 아르곤방전 (원리)
3.아르곤방전시 음극에서의 충돌
4.실제 ion-plating방전
5.실제적인 고려사항 및 상세한 계의 내용들
6.응용
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ion plating
이온 플레이팅은 은 박막의 성질을 향상시키기 위하여 glow discharge를 이용하는 물리증착과정의 총칭이라 할 수 있다. 이온 플레이팅도 스퍼터링과 비슷하게 플라즈마를 사용한 증착공정이지만 스퍼터링과는 달리 보통 증착하고자 하
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이온 플레이팅을 총칭하는 용어
≪ 그 림 ≫ 1. 서론
2. PVD법
2.1 PVD 란?
2.1 PVD 원리
2.3 PVD 개요
2.4 PVD 영상
2.5 PVD 장·단점
3. PVD 종류
3.1 PVD 종류
3.2 증발 (아크증발법)
3.3 이온도금 (이온주입법)
3.4 스퍼터링
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이온 플레이팅
㉠ 원리
불활성 기체 분위기에서 기판에 부의 고전압을 걸어 이상방전을 일으키면 서 동시에 증발물질을 증발시키거나 가스를 사용하지 않고 보조장치를 이 용하여 증발 물질을 이온화 또는 여기시킴으로써 이온화된 원자 또
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정의
2. CVD (화학 기상 증착법, Chemical Vapor Deposition)
- 원 리 -
- 특 징 -
1) 장 점
2) 단 점
2. PVD(물리증착법. Physical Vapor Deposition)
1) PVD(Physical Vapor Deposition)
1) 이온 플레이팅(lon Plating)
2) 스퍼터링(Spputtering)
o 정리 및 비교
3. 활용분야
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Credit라고 부른다. 한편 상품 이외의 거래를 수행하는 데 사용되는 신용장을 Clean 신용장이라 한다. 이는 다시 일반 크린신용장과 여행자 신용장으로 구분된다.
3) 취소불능 신용장과 취소가능 신용장
Irrevocable Credit란 신용장이 일단 개설되어
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