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반도체 공정에서 산화실험이 필요한 이유 2. 반도체 공정에서 Si 기반 어느부분에서 산화를 쓰는가??
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  • 등록일 2005.12.17
  • 파일종류 한글(hwp)
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공정에서는 매우 중요한 단위공정이다.  그 이유는 화학증착이 높은 반응온도와 복잡한 반응경로 그리고 대부분의 사용기체가 매우 위험한 물질이라는 단점에도 불구하고 고유한 장점들을 가지고 있기 때문이다. 화학증착법의 장점으로
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  • 등록일 2013.11.18
  • 파일종류 피피티(ppt)
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에너 지원으로 열 에너지가 많이 사용되는데 이런 경우를 열(thermal) CVD라고 한다. 또한 열 에너지 이외에 플라즈마나 빛 에너지도 사용되며, 이런 경우는 플라즈마(plasma) CVD 또 는 광(photo) CVD라고 한다. 1. 화학기상증착(CVD) 공정 ■ Metallization -
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  • 등록일 2010.04.15
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 참고문헌 없음
  • 최근 2주 판매 이력 없음
두께가 두꺼운 것이 요구되면 상당히 긴 시간이 소요된다. ※ Reference - Introduction to solid state physics,7th edition (Charles Kittle) - http://smdl.snu.ac.kr/Lecture/semi_process/data/ch101.ppt - http://home.mokwon.ac.kr/ 
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  • 등록일 2004.12.23
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 참고문헌 있음
  • 최근 2주 판매 이력 없음
반도체공학 - 박광순, 여진경 역. 학문사. 1997 [5] http://www.ece.utep.edu/research/webedl/cdte/Fabrication/index.htm [6] http://lsm.rutgers.edu/facilities_ALD.shtml [7] chap2. 전계효과 트랜지스터(FET) - 디스플레이공학 이준신교수님 강의자료 1. 실험목적 (Purpose) 2.
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  • 등록일 2014.01.07
  • 파일종류 한글(hwp)
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논문 25건

LED의 전반적인 설명과 LED의 제조공정방법에 대한 내용이 수록되어 있습니다. 1. LED의 실험배경 및 목적 2. LED란 무엇인가? 3. LED의 특징 및 응용분야 4. LED PKG제조공정 및 성능 비교 실험 5. 실험 일정 6. 참고자료
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  • 발행일 2015.09.08
  • 파일종류 피피티(ppt)
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  • 저자
반도체 패키지와 인쇄회로 기판 - 김경섭유정희 [3] 현대 반도체 광원의 기초 - 심종인이종창김종렬 [4] 초고속 SOP에서 인터페이스 채널과 트랜시버의 Co-design 방법 - 김용주 [5] 3D-IC Alliance, www.d3-ic.org [6] 하이닉스 반도체 www.hynix.co.kr [7] 삼성전
  • 페이지 33페이지
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  • 발행일 2010.05.17
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 발행기관
  • 저자
반도체 테스트의 일반적인 사항과 소프트웨어, 하드웨어에 대한 개론적인 설명 및 반도체 테스트의 테스트 아이템별 세부적인 설명 및 절차와 DFT(Design for Test)에 대한 간략한 설명을 나타내고 있다. 그 외의 테스트 후공정에 사용되는 장비에
  • 페이지 57페이지
  • 가격 3,000원
  • 발행일 2008.12.24
  • 파일종류 아크로벳(pdf)
  • 발행기관
  • 저자
반도체 Package공정 중 최근 high performance, 경박단소의 패키지 요구에 가장 부합되는 package로 WLCSP(Wafer Level Chip Size Package)에 대한 요구가 커지고 있다. 그 외에 Flip chip 기술을 위한 Wafer bumping기술 또한 최근 시장에서 그 요구가 증가를 하고 있다.
  • 페이지 20페이지
  • 가격 2,000원
  • 발행일 2008.12.24
  • 파일종류 아크로벳(pdf)
  • 발행기관
  • 저자
실험 대상 30 2. 실험 설계 31 3. 실험 절차 35 4. 분석 방법 35 Ⅳ. 연구 결과 36 1. 자료의 분석 36 1) 신뢰도 분석 36 2. 연구 가설의 검증 37 1) 조작 점검 37 2) 공감, 공정성 및 불공정지각과 도움행동의도 간 상관관
  • 페이지 76페이지
  • 가격 7,000원
  • 발행일 2012.01.05
  • 파일종류 아크로벳(pdf)
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  • 저자

취업자료 789건

견디며 새로운 길을 개척하는 끈기와 기존의 틀을 깨는 창의성이 필요합니다. 저는 이 두 가지를 균형 있게 발전시키며 연구개발에 임하고 싶습니다. 2025 삼성전자 DS부문 [메모리사업부] 반도체공정기술 자기소개서 자소서 및 면접질문
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  • 등록일 2025.08.27
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  • 직종구분 일반사무직
반도체 공정과 패키징 기술을 연구한 지원자입니다. TSV와 박막 증착 실험을 통해 공정 최적화와 데이터 분석 역량을 키웠고, 협업 프로젝트에서는 다양한 의견을 조율하며 문제를 해결했습니다. 실패를 두려워하지 않고 원인을 분석해 개선
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  • 등록일 2025.09.01
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 직종구분 일반사무직
공정 변수를 도출하였습니다. 이를 통해 기존 대비 이동도를 30% 향상시키는 결과를 도출하였으며, 연구 논문을 학술대회에서 발표하는 성과를 거두었습니다. 이러한 경험을 바탕으로, 저는 삼성전자의 반도체 공정설계 직무에서 차세대 반
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  • 등록일 2025.03.14
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  • 직종구분 기타
공정에서는 예상치 못한 불량이 발생할 수 있으며, 이를 해결하기 위해서는 데이터 기반의 분석과 협업이 필수적입니다. - 본인의 강점이 삼성전자 반도체 공정기술 직무에서 어떻게 발휘될 수 있을까요? 공정 최적화 연구 경험과 실험 설계
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  • 등록일 2025.03.14
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  • 직종구분 기타
언어’로 풀어내는 것도 공정설계자의 중요한 역할임을 체감하게 해준 계기였습니다. 삼성전자 내 협업 역시 이러한 소통 기반 설계가 필요하다고 생각합니다. 2025 삼성전자 DS부문 메모리사업부_반도체공정설계 면접 예상 질문 및 답변
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  • 등록일 2025.03.31
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 직종구분 일반사무직
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